[發明專利]平面振膜組件及其制備方法以及平面振膜揚聲器

在審

• 申請號: 202210801644.5
• 申請日: 2022-07-08
• 公開（公告）號: CN115190399A
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發明（設計）人: 劉開輝;張志強;尚俊峰;陳鑌;劉科海;楊方友;林智君;張超;王恩哥
• 申請（專利權）人: 松山湖材料實驗室;養生堂有限公司
• 主分類號: H04R7/10
• 分類號: H04R7/10;H04R31/00;H04R9/04;H04R9/06;H04R9/02
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 王南杰

1.一種平面振膜組件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在平面振膜本體的其中一表面上形成金屬層，其中，所述平面振膜本體的厚度為0.5μm～6μm，所述金屬層的厚度為1nm～20nm；

通過靜電噴霧的方式在所述金屬層上形成氧化石墨烯線路；

蝕刻所述金屬層，使所述金屬層形成金屬線路；以及

將所述氧化石墨烯線路還原為還原氧化石墨烯線路，得到音圈線路，其中，所述還原氧化石墨烯線路的厚度小于50nm。

2.如權利要求1所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，通過靜電噴霧的方式在所述金屬層上形成所述氧化石墨烯線路具體包括以下步驟：

將氧化石墨烯分散液經靜電噴霧裝置中的噴嘴噴出；以及

通過控制所述噴嘴沿X軸方向或沿Y軸方向移動，使噴出的所述氧化石墨烯分散液落在所述金屬層上后形成所述氧化石墨烯線路。

3.如權利要求1所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括以下步驟：

在所述平面振膜本體的其中一表面上形成所述金屬層之前，通過卷對卷的方式對所述平面振膜本體進行等離子粗化處理。

4.如權利要求1所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，所述金屬層通過蒸鍍或濺射的方式制備，所述金屬層的材質包括銅、鋁、鋁鋅合金、鎳、銀以及金中的至少一種。

5.如權利要求1至4中任一項所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括以下步驟：

在所述平面振膜本體的其中一表面上形成所述金屬層之后，且在所述金屬層上形成所述氧化石墨烯線路之前，通過蒸鍍或濺射的方式在所述平面振膜本體的另一表面上形成另一金屬層。

6.如權利要求1至4中任一項所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，所述還原氧化石墨烯線路的材質包括銀納米線、還原氧化石墨烯以及膠粘劑中的至少兩種。

7.如權利要求6所述的平面振膜組件的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括以下步驟：

在所述金屬層上形成所述氧化石墨烯線路之后，且在蝕刻所述金屬層之前，在所述平面振膜本體的另一表面上形成氧化石墨烯膜。

8.一種如權利要求1至7中任一項所述的平面振膜組件的制備方法制備的平面振膜組件，其特征在于，所述音圈線路的電導率大于或等于200S/CM。

9.如權利要求8所述的平面振膜組件，其特征在于，所述還原氧化石墨烯線路的形狀包括迂回線、同心圓以及螺旋線中的至少一種。

10.如權利要求8所述的平面振膜組件，其特征在于，所述平面振膜本體包括絕緣薄膜，所述絕緣薄膜的材質包括聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚亞苯基硫醚以及聚丙烯中的至少一種。

11.一種平面振膜揚聲器，包括磁性件，其特征在于，所述平面振膜揚聲器還包括如權利要求8至10中任一項所述的平面振膜組件，所述平面振膜組件和所述磁性件相隔設置。

12.如權利要求11所述的平面振膜揚聲器，其特征在于，所述平面振膜揚聲器還包括支撐件以及外殼，所述支撐件上設有收容孔，所述磁性件位于所述收容孔中，所述磁性件、所述平面振膜組件以及所述外殼均位于所述支撐件的同一側，且所述平面振膜組件位于所述磁性件和所述外殼之間，所述外殼罩設于所述平面振膜組件。