[發明專利]陣列基板及其制備方法和顯示裝置

在審

• 申請號: 202210786270.4
• 申請日: 2022-07-04
• 公開（公告）號: CN115132814A
• 公開（公告）日: 2022-09-30
• 發明（設計）人: 楊慧;陳亞妮
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L27/12
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 熊恒定

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板至少包括：

依次設置于柵極層上的柵絕緣層和有源層，所述柵絕緣層具有與所述有源層重疊的中央區和圍繞所述中央區的外圍區，所述有源層具有背離所述柵絕緣層的第一表面，所述柵絕緣層具有位于所述中央區的與所述有源層接觸的第三表面；以及，

擋光層，設置于所述外圍區，所述擋光層具有背離所述柵絕緣層的第二表面，其中，所述第二表面相對于所述第三表面的高度大于所述第一表面相對于所述第三表面的高度。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述柵絕緣層具有位于所述外圍區的與所述擋光層接觸的第四表面，所述第三表面與所述第四表面在同一個平面內延展，所述有源層具有第一厚度，所述擋光層具有第二厚度，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括源漏極層，所述源漏極層設置于所述有源層上，且具有第三厚度，其中，所述第三厚度等于所述第二厚度。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光層的材料與所述源漏極層的材料相同，且所述擋光層與所述源漏極層被介質材料隔開。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光層的電位被配置為懸浮。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光層的材料與所述柵絕緣層的材料相同。

7.根據權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光層與所述有源層相接觸。

8.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法至少包括：

在柵極層上依次形成柵絕緣層和有源層，其中，所述柵絕緣層具有與所述有源層重疊的中央區和圍繞所述中央區的外圍區，所述有源層具有背離所述柵絕緣層的第一表面，所述柵絕緣層具有位于所述中央區的與所述有源層接觸的第三表面；以及，

在所述外圍區形成擋光層，其中，所述擋光層具有背離所述柵絕緣層的第二表面，所述第二表面相對于所述第三表面的高度大于所述第一表面相對于所述第三表面的高度。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述在所述外圍區形成擋光層的步驟，具體包括：

使用同一光罩形成位于所述外圍區的擋光層以及位于所述有源層上的源漏極層。

10.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置至少包括如權利要求1至7任一項所述的陣列基板。