[發(fā)明專利]一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210767334.6 | 申請日: | 2022-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN115012028A | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張軍彥;王曉鋒;白梟;李文東;李媛 | 申請(專利權(quán))人: | 山西中電科新能源技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C30B23/00 | 分類號: | C30B23/00;C30B29/36 |
| 代理公司: | 太原高欣科創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14109 | 代理人: | 張敏;崔雪花 |
| 地址: | 030032 山西省太原*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 尺寸 碳化硅 晶體 方法 | ||
1.一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)制粉:采用碳源和硅源在溫度為1700-2500℃、壓力為5-1000Pa、攪拌的條件下反應(yīng)2-30h,制備得到碳化硅粉;
2)成型:將碳化硅粉通過真空熱壓的方式制備得到低密度碳化硅塊;極限真空:10-7Pa-10-3Pa;溫度800~1600℃;壓力10~200T;施壓2~10h;
3)增密:將低密度碳化硅塊在溫度1000~1800℃,等靜壓壓力80~150MPa,施壓時間20~50h下制備得到高密度碳化硅塊;
4)成晶:將高密度碳化硅塊在溫度2000~2400℃,等靜壓壓力160~220MPa,施壓時間10~200h下制備得到碳化硅晶體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,所述的碳源為高純碳粉或高純含碳?xì)怏w;所述的硅源為高純單質(zhì)硅或高純二氧化硅或高純一氧化硅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,硅源與碳源的摩爾配比為:0.6-1.5:0.8-1.7。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,制粉工序中,是將碳源和硅源置于坩堝中進(jìn)行反應(yīng),通過坩堝上下移動以及旋轉(zhuǎn)運(yùn)動實現(xiàn)攪拌,坩堝的提升速度0-200mm/h,旋轉(zhuǎn)速度0-500r/h;攪拌時間為0.5~10h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,是將碳化硅粉置于坩堝之后再置于真空熱壓爐中進(jìn)行成型,在升溫前將真空熱壓爐抽到極限真空,并將極限真空維持到400~600℃,之后通入保護(hù)性氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,成型過程中,達(dá)到設(shè)定溫度前,不施壓;溫度到達(dá)設(shè)定溫度后,逐漸加壓,并且在將碳化硅粉壓縮5~50mm后,將壓機(jī)壓頭脫離被壓碳化硅表面,抽到極限真空,維持5~100min,之后壓頭接觸碳化硅被壓表面,繼續(xù)進(jìn)行壓制;此過程循環(huán)進(jìn)行,直到制備得到的低密度碳化硅塊壓縮變形量小于5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,將低密度碳化硅塊使用熱等靜壓裝置進(jìn)行增密;在升溫之前,先將熱等靜壓裝置腔體抽空至極限真空,并維持5~500分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,熱等靜壓裝置施壓過程中,施壓介質(zhì)為氬氣。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,將高密度碳化硅塊經(jīng)過超高溫?zé)岬褥o壓設(shè)備進(jìn)行成晶;成晶過程中,壓力的實施逐步從0 MPa提升到工藝要求的設(shè)定值,并且在壓力達(dá)到設(shè)定值后在2000~2400℃維持2~10h,實現(xiàn)晶體的充分轉(zhuǎn)化。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備大尺寸碳化硅晶體的方法,其特征在于,將制備得到碳化硅晶體通過機(jī)械加工,把表面雜質(zhì)層去掉,得到碳化硅晶錠。
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