[發明專利]一種集成電路圖像匹配方法及系統

在審

• 申請號: 202210766255.3
• 申請日: 2022-07-01
• 公開（公告）號: CN115017862A
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 黃茂芹
• 申請（專利權）人: 廣東賽昉科技有限公司
• 主分類號: G06F30/3947
• 分類號: G06F30/3947;G06F30/398
• 代理公司: 上海互順專利代理事務所(普通合伙) 31332
• 代理人: 韋志剛;曹月明

1.一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于，包括：

集成電路數據獲取模塊(1)，兩個均連接有通訊模塊(2)，所述集成電路數據獲取模塊(1)用于獲取集成電路的特征模板圖片，并將圖片發送到通訊模塊(2)中；

所述通訊模塊(2)連接有圖像對比模塊(3)，所述通訊模塊(2)用于將特征模板圖片發送到圖像對比模塊(3)中；

圖像對比模塊(3)，連接有輸出結果模塊(4)，所述圖像對比模塊(3)用于對比標準集成電路的特征模板圖片和待測集成電路的特征模板圖片，獲取待測集成電路特征模板圖片與標準集成電路特征模板圖片的差異位點，并將差異位點信息發送到輸出結果模塊(4)中；

輸出結果模塊(4)，連接有控制終端(5)和次品統計模塊(7)，所述輸出結果模塊(4)用于將差異位點信息輸出到控制終端(5)中；

控制終端(5)，連接有通知模塊(6)，所述控制終端(5)用于方便監控人員查看集成電路的差異位點情況，并將控制指令發送到通知模塊(6)中；

通知模塊(6)，用于通知工作人員將損壞的集成電路回收；

次品統計模塊(7)，用于統計損壞集成電路的損壞位點、位點數量和生產批次，從而方便工作人員總結生產經驗，改進生產質量。

2.根據權利要求1所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

所述次品統計模塊(7)包括損壞位點統計模塊(12)、位點數量統計模塊(13)、生產批次統計模塊和本地存儲模塊(15)，所述損壞位點統計模塊(12)、位點數量統計模塊(13)和生產批次統計模塊均連接有本地存儲模塊(15)。

3.根據權利要求2所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

損壞位點統計模塊(12)，用于統計集成電路上損壞的位點，將損壞的位點統一存儲在本地存儲模塊(15)中；

位點數量統計模塊(13)，用于統計集成電路上各個位點的損壞數量，將損壞位點的數量存儲在本地存儲模塊(15)中；

生產批次記錄模塊(14)，用于統計集成電路的生產批次，將損壞的位點、位點數量與生產批次相匹配，共同存儲在本地存儲模塊(15)中；

本地存儲模塊(15)，用于存儲損壞位點、位點數量及生產批次。

4.根據權利要求1所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

所述次品統計模塊(7)連接有云端服務器(16)，所述云端服務器(16)連接有大數據網絡(17)和控制終端(5)。

5.根據權利要求4所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

云端服務器(16)，用于將次品信息同步到云端，避免本地存儲模塊(15)的損壞導致數據全部丟失；

大數據網絡(17)，用于將各個云端服務器(16)中存儲的信息進行大數據分享，使各個云端服務器(16)內的數據互通互聯。

6.根據權利要求1所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

所述集成電路數據獲取模塊(1)包括圖像拍攝模塊(8)、數據上傳模塊(9)、特征提取模塊(10)和映射生成模塊(11)，所述圖像拍攝模塊(8)連接有數據上傳模塊(9)，所述數據上傳模塊(9)連接有特征提取模塊(10)，所述特征提取模塊(10)連接有映射生成模塊(11)。

7.根據權利要求6所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

圖像拍攝模塊(8)，用于拍攝標準集成電路和待測集成電路，將拍攝成的圖片發送到數據上傳模塊(9)中；

數據上傳模塊(9)，用于將拍攝到的圖像數據發送到特征提取模塊(10)中；

特征提取模塊(10)，用于提取集成電路上的特征點，將特征點提取成模板數據；

映射生成模塊(11)，用于根據提取出的模板數據，生成與模板數據對應的映射模板，通過映射模塊形成模板圖像。

8.根據權利要求1所述的一種集成電路圖像匹配系統，其特征在于：

所述通知模塊(6)包括回收工位(18)、蜂鳴器(19)和顯示器(20)，所述回收工位(18)上安裝有蜂鳴器(19)和顯示器(20)。