[發明專利]繪制系統、繪制方法以及記錄有程序的存儲介質

在審

• 申請號: 202210758432.3
• 申請日: 2022-06-29
• 公開（公告）號: CN115734479A
• 公開（公告）日: 2023-03-03
• 發明（設計）人: 坂本道昭
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H05K3/00
• 分類號: H05K3/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;閆劍平

本發明提供一種繪制系統。匹配位置決定部設定與對應于臨時匹配位置(95a)的模板相同大小的臨時模板區域(951a)，以臨時模板區域(951a)為中心設定比攝像部的攝像視野大的核對區域(952a)。匹配位置決定部還確認在核對區域(952a)中是否存在表示與臨時模板區域(951a)相同的圖案的重復區域。然后，在核對區域(952a)中存在重復區域的情況下，匹配位置決定部反復使臨時匹配位置(95a)向規定方向移動而再次設定臨時模板區域(951a)以及核對區域(952a)，確認是否存在重復區域。另一方面，在核對區域(952a)中不存在重復區域的情況下，匹配位置決定部將臨時匹配位置(95a)決定為匹配位置。

參照關聯申請

本申請主張在2021年8月27日中提交的日本專利申請JP2021-139064的優先權的利益，該申請的全部公開援引至本申請中。

技術領域

本發明涉及對基板照射光繪制圖案的技術。

背景技術

以往以來，通過對形成在半導體基板、印刷基板、或者有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置用的玻璃基板等(以下，稱為“基板”)的感光材料照射光，繪制圖案。在進行這種繪制的繪制裝置中，進行了檢測設在基板上的對準標記的位置并對圖案的繪制位置自動進行調節的對準處理。

近年來，在相對于印刷基板進行繪制時，為了使能夠從一張基板獲取的個數增加，要求削減用于配置對準標記的空間。于是，不在基板設置對準專用的標記，利用基板上的圖案的一部分來作為對準標記。

例如，在JP特開2013-171988號公報(文獻1)的曝光裝置中，在拍攝基板上的圖案得到的圖像內，將該圖案的一部分設定為在對準處理中利用的基準標記模型(即，模板)并事先錄入。然后，當應曝光的基板搬入至曝光裝置時，拍攝該基板上的圖案的一部分，進行得到的圖像與上述基準標記模型的圖案匹配，進行該基板的對準處理。

此外，在文獻1的曝光裝置中，為了得到圖案匹配用的模板，在曝光裝置的規定位置設置基板來拍攝基板上的圖案，需要從得到的圖像提取成為模板的局部圖案。為此，生成模板所需的作業量變多，作業時間也變長。

另外，在利用基板上的圖案的一部分來作為模板的情況下，需要設計者進行從該圖案選擇成為模板的部分的作業。成為該模板的部分需要為在周圍的區域不存在與模板相同或者類似的圖案的部分。因此，在選擇成為模板的部分時的設計者的作業量也變多。

發明內容

本發明提供一種繪制系統，其目的在于降低生成模板所需的設計者的作業量。