[發(fā)明專利]一種高發(fā)射率涂層及其應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210746040.5
• 申請(qǐng)日: 2022-06-28
• 公開（公告）號(hào): CN114988896A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉玲;柳彥博;馬壯;孟銘煜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京理工大學(xué)
• 主分類號(hào): C04B35/66
• 分類號(hào): C04B35/66;C04B35/44;C04B35/50;C04B35/622;B64C1/00
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 謝春超

1.一種高發(fā)射率涂層，所述高發(fā)射率涂層的制備方法包括以下步驟：

將高熵陶瓷材料造粒，得到球形高熵陶瓷材料；

以球形高熵陶瓷材料為原料采用等離子噴涂法在基體表面制備高發(fā)射率涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，等離子噴涂前還包括：對(duì)所述基體進(jìn)行噴砂處理。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述噴砂處理的壓力為2～6MPa，所述噴砂處理的時(shí)間為2～5s。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述等離子噴涂包括如下工藝參數(shù)：

電流：500～1000A；主氣：40～100SCFH；輔氣：5～20SCFH；載氣：3～12SCFH；噴槍與基體之間的距離：70～150mm；送粉量：2～6r/min；功率：30～60kW；主氣為Ar，輔氣為H₂，載氣為Ar。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述造粒為噴霧造粒；

所述噴霧造粒包括以下步驟：

將高熵陶瓷材料、分散劑和粘結(jié)劑混合，得到漿料；

將所述漿料進(jìn)行噴霧造粒，得到球形高熵陶瓷材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述噴霧造粒的進(jìn)口溫度為240～280℃，出口溫度為140～160℃，蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速為30～50r/min，噴頭轉(zhuǎn)速為30～50r/s。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述高熵陶瓷材料包括REMgAl₁₁O₁₉；其中RE為La、Nd、Gd、Sm、Pr、Dy、Ce和Eu中的一種或多種。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述高熵陶瓷材料為(La_0.2Nd_0.2Gd_0.2Sm_0.2M_0.2)MgAl₁₁O₁₉，其中M為Pr、Dy、Ce或Eu。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述高發(fā)射率涂層，其特征在于，所述高熵陶瓷材料的制備方法包括以下步驟：

將稀土元素氧化物、鎂源和鋁源混合，得到混合物料；所述鎂源包括氧化鎂或氫氧化鎂，所述鋁源包括氧化鋁或氫氧化鋁；

將所述混合物料進(jìn)行焙燒，得到所述高熵陶瓷材料。

10.權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述高發(fā)射率涂層在超高聲速飛行器外表面或熱工爐內(nèi)表面的應(yīng)用。