[發明專利]一種磁控濺射設備中遮擋件冷卻的適配器及磁控濺射設備在審
| 申請號： | 202210708151.7 | 申請日： | 2022-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN115181947A | 公開（公告）日： | 2022-10-14 |
| 發明（設計）人： | 徐偉;劉超;宋永輝 | 申請（專利權）人： | 無錫尚積半導體科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 蘇州京昀知識產權代理事務所(普通合伙) 32570 | 代理人： | 顧友 |
| 地址： | 214135 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 設備 遮擋 冷卻 適配器 | ||
1.一種用于磁控濺射設備中遮擋件冷卻的適配器，其特征在于，與濺射腔體以及濺射源連接，包括：
殼體，沿所述遮擋件的周向設置，所述殼體包括:延伸部和主體部，所述主體部沿周向設有安裝槽，所述延伸部與所述主體部連接，并沿著所述遮擋件的周向設置；
冷卻件，所述冷卻件設置于所述安裝槽內，用于冷卻所述遮擋件。
2.如權利要求1所述的適配器，其特征在于，所述主體部的內側形成有：螺紋段、傾斜段，所述傾斜段自所述延伸部的端面向外傾斜，所述螺紋段與所述傾斜段連接，所述螺紋段的內壁設有設有螺紋。
3.如權利要求1所述的適配器，其特征在于，所述主體部的內側形成有：安裝段，所述安裝段與所述遮擋件連接，所述殼體通過所述安裝段設置于所述遮擋件外。
4.如權利要求1所述的適配器，其特征在于，所述殼體與所述遮擋件之間形成有間隙空間，所述間隙空間的寬度為0.2mm～0.5mm。
5.如權利要求1所述的適配器，其特征在于，所述殼體的導熱系數大于所述遮擋件的導熱系數。
6.如權利要求1-5中任一項所述的適配器，其特征在于，所述冷卻件，包括：
冷卻管，所述冷卻管內流通冷卻介質，通過所述冷卻介質與所述遮擋件進行熱交換，降低所述遮擋件的溫度。
7.如權利要求6所述的適配器，其特征在于，所述冷卻管的進口端與介質源設備的出口端連接，所述冷卻管的出口端與介質回收設備的進口端連接，所述介質源設備與所述介質回收設備連接。
8.一種磁控濺射設備，其特征在于，包括：
真空腔體以及從上至下依次設置在所述真空腔體內的靶材、如權利要求1至7任一項所述的適配器、遮擋件以及襯底，其中所述適配器安裝于所述遮擋件上。
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