[發(fā)明專利]一種利用ISEP系統(tǒng)制備超干試劑的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210702900.5
• 申請(qǐng)日: 2022-06-21
• 公開（公告）號(hào): CN115121035A
• 公開（公告）日: 2022-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張路家
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 永華化學(xué)股份有限公司
• 主分類號(hào): B01D36/00
• 分類號(hào): B01D36/00;B01D15/20
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 王苗苗

1.一種利用ISEP系統(tǒng)制備超干試劑的方法，所述ISEP系統(tǒng)包括轉(zhuǎn)盤和呈圓周式固定在轉(zhuǎn)盤上的若干填充柱，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

所述ISEP系統(tǒng)包括吸附脫水區(qū)、殘留溶劑排出區(qū)、填料再生區(qū)和降溫區(qū)；填充柱在轉(zhuǎn)盤的帶動(dòng)下循環(huán)經(jīng)過(guò)吸附脫水區(qū)、殘留溶劑排出區(qū)、填料再生區(qū)和降溫區(qū)；

所述吸附脫水區(qū)通入制備超干試劑的原料，所述殘留溶劑排出區(qū)通入低溫氮?dú)猓鎏盍显偕鷧^(qū)通入高溫氮?dú)猓鼋禍貐^(qū)通入低溫氮?dú)猓凰龈邷氐獨(dú)獾臏囟葹?50～250℃，所述殘留溶劑排出區(qū)和所述降溫區(qū)通入的低溫氮?dú)獾臏囟泉?dú)立地為-10～5℃。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述ISEP系統(tǒng)中填充柱的總數(shù)量為12～30根。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸附脫水區(qū)為4～6柱，在所述吸附脫水區(qū)內(nèi)，各個(gè)填充柱為串聯(lián)結(jié)構(gòu)，原料在吸附脫水區(qū)順流逐級(jí)吸附。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述殘留溶劑排出區(qū)為單柱。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述填料再生區(qū)為4～6柱，所述填料再生區(qū)內(nèi)，各個(gè)填充柱為串聯(lián)結(jié)構(gòu)，采用逆流脫附的方式進(jìn)行填料再生。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述降溫區(qū)為3～6柱，所述降溫區(qū)內(nèi)，各個(gè)填充柱為串聯(lián)結(jié)構(gòu)，低溫氮?dú)庖阅媪鞯姆绞酵ㄈ搿?/p>

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸附脫水區(qū)內(nèi)，原料的進(jìn)料速度為0.5～2倍排空體積，每根填充柱在進(jìn)料槽口處的停留時(shí)間為15～30min；所述殘留溶劑排出區(qū)內(nèi)，低溫氮?dú)獾耐ㄈ胨俣葹?.1～0.5m/s，氮?dú)鈮毫蠒r(shí)間為10～15min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述填料再生區(qū)內(nèi)，高溫氮?dú)獾耐ㄈ胨俣葹?～5m/s，每根填充柱在高溫氮?dú)馔ㄈ氩劭谔幍耐Ａ魰r(shí)間為10～15min；所述降溫區(qū)內(nèi)，低溫氮?dú)獾耐ㄈ胨俣葹?～5m/s，每根填充柱在低溫氮?dú)馔ㄈ氩劭谔幍耐Ａ魰r(shí)間為10～15min。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸附脫水區(qū)和殘留溶劑排出區(qū)流出的物料進(jìn)入半成品中間槽內(nèi)，半成品中間槽內(nèi)的物料通過(guò)二級(jí)過(guò)濾后在手套箱內(nèi)分裝。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述二級(jí)過(guò)濾用二級(jí)過(guò)濾系統(tǒng)包括第一級(jí)過(guò)濾器和第二級(jí)過(guò)濾器，所述第一級(jí)過(guò)濾器的濾膜孔徑為10μm，所述第二級(jí)過(guò)濾器的濾膜孔徑為0.45～0.8μm。