[發明專利]具備抗靜電的AR薄膜、顯示組件及顯示設備

在審

• 申請號: 202210698797.1
• 申請日: 2022-06-20
• 公開（公告）號: CN115166877A
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發明（設計）人: 嚴俊;汪金銘;于佩強;胡業新;劉世琴
• 申請（專利權）人: 江蘇日久光電股份有限公司
• 主分類號: G02B1/16
• 分類號: G02B1/16
• 代理公司: 蘇州三英知識產權代理有限公司 32412
• 代理人: 朱如松

本發明公開了具備抗靜電的AR薄膜、顯示組件及顯示設備，其中AR薄膜，包括順次設置的基材、抗靜電涂層以及防反射層，防反射層為采用濺射形成的，防反射層至少包括有若干交替排列的二氧化硅層和五氧化二鈮層；抗靜電涂層的抗靜電值為10⁶?10⁹Ω。本發明通過優化復合結構的防反射層，從而有效改善了薄膜的防反射和高透光率性能，并且防反射層具有良好的成型可控性，均一性好，有利于改善顯示性能。

技術領域

本發明是關于電子技術領域，特別是關于一種具備抗靜電的AR薄膜、顯示組件及顯示設備。

背景技術

近年來，TAC(三醋酸纖維薄膜)和PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)基材在電子顯示屏上的應用越來越廣泛和深入。TAC和PET本身的絕緣性能，在接觸和摩擦過程中容易產生和聚集靜電荷。一定量的靜電荷的存在會對TAC和PET的電子產品造成靜電沖擊，會破壞電子產品性能和引發安全事故，也會因為表面靜電出現塵埃吸附。與此同時，電子顯示屏表面的高反射會導致用戶無法看清屏幕上的內容，嚴重影響體驗，因此我們需要進行減反射處理，實現防反射(Anti-Reflective)的最終目的。

防反射層(AR)的一般可以采用三種方法成膜，包括真空蒸發、濕法涂布和磁控濺射鍍膜。其中真空蒸發鍍膜的鍍膜均勻性差，薄膜涂層的附著力差，重復性差，難以獲得結晶結構的薄膜。濕法涂布的平均反射率較高，平均反射率在1％以上，減反射效率低。因此選用磁控濺射來進行鍍膜，平均反射率在0.5％左右且均一性好。但是現有方案中磁控濺射鍍膜技術不足以兼顧光通過以及使用者視覺感受方面的需求，難以滿足智能設備的顯示需求。

公開于該背景技術部分的信息僅僅旨在增加對本發明的總體背景的理解，而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域一般技術人員所公知的現有技術。

發明內容

本發明的目的在于提供一種具備抗靜電的AR薄膜、顯示組件及顯示設備，通過優化復合結構的防反射層，從而有效改善了薄膜的防反射和高透光率性能，并且防反射層具有良好的成型可控性，均一性好，有利于改善顯示性能。

為實現上述目的，本發明的實施例提供了具備抗靜電的AR薄膜，包括順次設置的基材、抗靜電涂層以及防反射層，防反射層為采用濺射形成的，防反射層至少包括有若干交替排列的二氧化硅層和五氧化二鈮層；抗靜電涂層的抗靜電值為10⁶-10⁹Ω。

在本發明的一個或多個實施方式中，防反射層包括第一五氧化二鈮層、第一二氧化硅層、第二五氧化二鈮層、第二二氧化硅層，第一五氧化二鈮層與抗靜電涂層相鄰。

在本發明的一個或多個實施方式中，第一五氧化二鈮層厚度為10-20nm。

在本發明的一個或多個實施方式中，第一二氧化硅層厚度為20-35nm。

在本發明的一個或多個實施方式中，第二五氧化二鈮層厚度為110-130nm。

在本發明的一個或多個實施方式中，第二二氧化硅層厚度為70-100nm。

在本發明的一個或多個實施方式中，二氧化硅層的折射率為1.42-1.5。

在本發明的一個或多個實施方式中，五氧化二鈮層的折射率為2.1-2.5。

在本發明的一個或多個實施方式中，顯示組件，包括具有顯示界面的顯示器以及如前述的AR薄膜，AR薄膜設置于顯示界面。顯示組件可以為如液晶顯示器組件等，此時AR薄膜設置于該液晶顯示組件的屏幕表面。

在本發明的一個或多個實施方式中，顯示設備，包括安裝框架以及如前述的顯示組件，顯示組件連接到安裝框架。