[發明專利]一種用于氧化制程的氣體混合裝置及處理設備

在審

• 申請號: 202210690522.3
• 申請日: 2022-06-17
• 公開（公告）號: CN115193277A
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發明（設計）人: 潘德烈
• 申請（專利權）人: 深圳市德明利光電有限公司
• 主分類號: B01F23/10
• 分類號: B01F23/10;B01F35/21;B01F35/83;H01L21/02
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 崔熠

1.一種用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，包括氣體混合器、第一管道、第二管道和第三管道，所述氣體混合器通過所述第一管道與氧化制程的處理腔室連接，所述第一管道上依次設置有第一MFC和第二MFC，所述第二管道與所述第一管道的連接處位于所述第一MFC和所述第二MFC之間，所述第二管道上設置有第三MFC，所述第三管道與所述第一管道的連接處位于所述第二MFC與所述處理腔室之間，所述第三管道上設置有壓力控制器；

經所述氣體混合器排出的第一預設比例的混合氣體在所述第一MFC的控制下與經所述第二管道通入的第一組成氣體在所述第三MFC的控制下混合形成第二預設比例的處理氣體，所述壓力控制器分流一部分所述第二預設比例的處理氣體經所述第三管道排出，另一部分所述第二預設比例的處理氣體在所述第二MFC的控制下流向所述處理腔室。

2.根據權利要求1所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，還包括第四管道和第五管道，所述第四管道和所述第五管道上分別設置有第四MFC和第五MFC，所述第四管道和所述第五管道分別通過所述第四MFC和所述第五MFC與所述氣體混合器對應連接；

經所述第四管道通入的第二組成氣體在所述第四MFC的控制下與經所述第五管道通入的第三組成氣體在所述第五MFC的控制下分別流入所述氣體混合器內混合形成所述第一預設比例的混合氣體。

3.根據權利要求2所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，還包括儲液器和第六管道，所述儲液器用于存儲水，所述第六管道伸入至所述儲液器的液面以下，所述第四管道露出于所述儲液器的液面之上，經所述第六管道通入的第四組成氣體在所述儲液器內的水的作用下加濕形成所述第二組成氣體。

4.根據權利要求3所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，所述儲液器內設置有第一水位監測器，所述第一水位監測器用于檢測所述儲液器的液面高度。

5.根據權利要求4所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，所述儲液器內還設置有第二水位監測器，所述第二水位監測器用于檢測所述儲液器的液面高度，沿液面高度方向，所述第二水位監測器間隔設置于所述第一水位監測器的下方。

6.根據權利要求3所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，所述儲液器內設置有溫度監測器，所述溫度監測器用于檢測所述儲液器內的水的溫度。

7.根據權利要求3所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，所述第一組成氣體、所述第三組成氣體和所述第四組成氣體的組分和濕度均相同，所述第四組成氣體和所述第二組成氣體的組分相同。

8.根據權利要求7所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，所述第一組成氣體為氮氣。

9.根據權利要求1所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，其特征在于，還包括收集器，所述收集器與所述第三管道連接，用于收集經所述第三管道排出的所述第二預設比例的處理氣體。

10.一種用于氧化制程的處理設備，其特征在于，包括反應爐以及權利要求1～9任意一項所述的用于氧化制程的氣體混合裝置，所述反應爐內具有處理腔室，所述用于氧化制程的氣體混合裝置的第一管道與所述處理腔室連接。