[發明專利]一種防輻射隔離板及其制造方法

在審

• 申請號: 202210676820.7
• 申請日: 2022-06-16
• 公開（公告）號: CN114889301A
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發明（設計）人: 尹志華;李良;尹超
• 申請（專利權）人: 湖州市吳興區新江浩鋁電解電容器研究院
• 主分類號: B32B33/00
• 分類號: B32B33/00;B32B3/30;B32B3/08;B32B15/00;B32B15/04;B32B15/18;B32B15/20;C09D201/00;C09D7/61
• 代理公司: 深圳漢世知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 44578
• 代理人: 田志立

1.一種防輻射隔離板，其特征在于：包括有隔離基板、分別設置于隔離基板上下面表面的上表面板以及下表面板；隔離基板包括基材層、涂覆于基材層表面的防輻射復合材料層；其中，所述基材層為單層或者多層的拓撲結構層；所述拓撲結構層的厚度為0.1-5mm；拓撲結構層的表面設置有若干沖壓成型的凹坑，所述凹坑的底部為平面，凹坑的側壁為斜面。

2.如權利要求1所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述拓撲結構層包括至少一拓撲板，所述拓撲板為頂層板、底層板、或者中繼板；其中，所述頂層板、底層板于其中一面上設置有多個支撐結構；所述中繼板的兩面分別設置有多個支撐結構。

3.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述多個支撐結構以規則或者不規則的陣列方式排布設置于所述頂層板、底層板、以及中繼板上。

4.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述頂層板和所述底層板結構相同，所述支撐結構為在頂層板或者底層板的表面壓凹而成的凸點。

5.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述支撐結構為底部平齊的圓形、錐形或者其他幾何形狀的漏斗型。

6.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述拓撲結構層為單一的頂層板、底層板、或者中繼板；或者為頂層板、底層板、中繼板其中兩者、或者三者的結合。

7.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述防輻射復合材料層的材質包括有金屬粉纖、樹脂粘接劑以及固化劑。

8.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述支撐結構在頂層板上的排布方式與在底層板上以及中繼板上的排布方式不相同。

9.如權利要求2所述的防輻射隔離板，其特征在于：所述支撐結構在頂層板上的排布方式與在底層板、以及中繼板上的排布方式相同。

10.一種防輻射隔離板的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、提供板材，對板材的單面或雙面進行壓凹處理，得到表面形成有凹坑和凸起的拓撲結構層，單層或者多層拓撲結構層合在一起構成隔離基板的基材層；

S2、制備防輻射混漿涂料，將金屬粉纖漿料、樹脂粘結劑、固化劑通過混漿機按比例調和進行混漿，得到防輻射混漿涂料；

S3、對步驟S1中所得到的基材層的表面進行處理，增加基材層的表面的粗糙度，并進行清潔，消除基材層表面的水分和濕氣；

S4、將步驟S2中所得的防輻射混漿涂料噴涂至基材層的表面，使得基材層表面被防輻射混漿涂料全面覆蓋；

S5、將經過步驟S4處理的基材層進行烘烤，使得涂層固定成型，從而得到所述防輻射隔離板。