[發明專利]抗蝕劑膜的形成方法及抗蝕劑膜

在審

• 申請號: 202210628366.8
• 申請日: 2022-06-06
• 公開（公告）號: CN115497839A
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 池田梢
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: H01L21/56
• 分類號: H01L21/56
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 張志楠;龐東成

1.一種抗蝕劑膜的形成方法，其包括：

工序A，在基板上賦予23℃下的粘度為1000mPa·s～30000mPa·s的抗蝕劑，從而形成所述抗蝕劑的膜；

工序B，對配置在由限制部件包圍的區域內的所述抗蝕劑的膜進行熱處理，該限制部件是限制所述抗蝕劑流出的限制部件；及

工序C，隔著片材對配置在通過設置調整部件而形成的區域內的、所述熱處理后的所述抗蝕劑的膜進行熱壓，該調整部件是將所述抗蝕劑的膜調整為所期望厚度的調整部件。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

所述工序C中的所述片材的所述抗蝕劑的膜側的表面的算術平均粗糙度Ra為10μm以下。

3.根據權利要求1所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

所述工序C中的所述片材的楊氏模量為40MPa～5500MPa。

4.根據權利要求1所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

所述工序C中的所述調整部件與所述熱處理后的所述抗蝕劑的膜在面內方向上隔開間隔地配置。

5.根據權利要求1所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

在所述工序B中，通過逐級地或連續地提高所述抗蝕劑的膜的溫度，使所述抗蝕劑的粘度為5000mPa·s以下。

6.根據權利要求1所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

在所述工序B中，在真空環境下對粘度為5000mPa·s以下的所述抗蝕劑的膜進行熱處理。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的抗蝕劑膜的形成方法，其中，

所述工序C中的所述熱壓的溫度低于所述工序B中的所述熱處理的溫度。

8.一種抗蝕劑膜，其通過權利要求1至7中任一項所述的抗蝕劑膜的形成方法而形成，所述抗蝕劑膜的膜厚為300μm以上且面內膜厚變動在10％以內。