[發明專利]光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法在審
| 申請號： | 202210610385.8 | 申請日： | 2022-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN114923932A | 公開（公告）日： | 2022-08-19 |
| 發明（設計）人： | 李陽;金虎范;周陽強 | 申請（專利權）人： | 青島融合智能科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/958 | 分類號： | G01N21/958;G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 青島發思特專利商標代理有限公司 37212 | 代理人： | 張灑灑 |
| 地址： | 266000 山東省青*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學玻璃 研磨 不均 缺陷 檢測 方法 | ||
1.光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)將光學玻璃基板(2)放置在玻璃支架上；
2)打開光源(1)調整亮度，光透過光學玻璃基板(2)投射至白色背景(3)上；
3)對投射到白色背景(3)上的圖像進行分析，判斷出光學玻璃基板(2)上是否存在研磨不均的缺陷。
2.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，步驟3)中，具體分析方式為：檢測人員觀察白色背景(3)是否存在豎向或弧線狀印記，若存在則說明光學玻璃基板(2)上存在研磨不均的缺陷，否則不存在缺陷。
3.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，步驟3)中，具體分析方式為：玻璃支架上方放置CCD鏡頭，對白色背景(3)上的成像進行圖片信息收集，然后對收集到的圖像進行像素灰階判定。
4.如權利要求3所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，所述CCD鏡頭采用單個像素為7-10μm的廣角線性CCD鏡頭。
5.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，所述光源(1)采用氙燈。
6.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，所述玻璃支架距幕布0.5-1m。
7.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，白色背景處檢測照度大于80LUX。
8.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，所述玻璃支架采用可旋轉的玻璃支架。
9.如權利要求1所述的光學玻璃基板研磨不均的缺陷檢測方法，其特征在于，所述白色背景(3)采用白色幕布。
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