[發(fā)明專利]一種用于液體防護(hù)的晶圓清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210592335.1
• 申請日: 2022-05-27
• 公開（公告）號: CN114871182B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉長偉;耿克濤;姜巖松;陳理
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波潤華全芯微電子設(shè)備有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 浙江中桓凱通專利代理有限公司 33376
• 代理人: 李美寶

1.一種用于液體防護(hù)的晶圓清洗裝置，其特征在于，包括：

安裝盤，所述安裝盤包括安裝盤本體、開設(shè)于所述安裝盤本體中心的安裝孔，以及設(shè)于所述安裝盤本體頂面并圍繞所述安裝孔的擋板；所述安裝盤用于容納清洗所需的噴嘴，同時，收集清洗晶圓后流下的清洗液；

承片部，所述承片部包括承片臺、支撐柱和擋液罩，所述支撐柱設(shè)于所述安裝孔，所述承片臺連接所述支撐柱頂部，所述擋液罩圍繞所述支撐柱，并且所述擋液罩覆蓋所述安裝孔；所述擋液罩包括：避讓槽，所述避讓槽朝向所述擋板；其中，所述擋板的頂部與所述擋液罩底部齊平或所述擋板的頂部伸入所述避讓槽中；

驅(qū)動裝置和輸出軸，所述輸出軸連接所述驅(qū)動裝置；所述支撐柱包括軸孔，所述輸出軸安裝至所述軸孔內(nèi)；

冷卻裝置，所述冷卻裝置設(shè)于所述驅(qū)動裝置和所述安裝盤之間，所述冷卻裝置包括冷卻管道，所述冷卻管道環(huán)繞所述輸出軸設(shè)置；所述冷卻裝置包括多個延伸件和冷卻裝置本體，多個所述延伸件位于所述冷卻裝置本體側(cè)面，并與所述安裝盤底面貼合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述擋液罩包括：第一導(dǎo)向面，所述第一導(dǎo)向面朝向所述承片臺，所述第一導(dǎo)向面連接所述支撐柱的側(cè)面和所述擋液罩的側(cè)面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述承片部包括：第二導(dǎo)向面，所述第二導(dǎo)向面朝向所述擋液罩，所述第二導(dǎo)向面連接所述承片臺的側(cè)面和所述支撐柱的側(cè)面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述支撐柱和所述安裝孔之間設(shè)有間隙。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述晶圓清洗裝置還包括：真空管道和真空裝置；

其中，所述真空管道穿過所述承片臺、所述支撐柱、所述輸出軸和所述驅(qū)動裝置，所述真空裝置設(shè)于所述驅(qū)動裝置底部或所述驅(qū)動裝置一側(cè)，所述真空裝置連通所述真空管道。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述支撐柱還包括：密封槽和密封件，所述密封槽開設(shè)于所述軸孔內(nèi)壁，所述密封件設(shè)于所述密封槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述安裝盤包括第一限位槽，所述第一限位槽環(huán)繞所述安裝孔，并與所述冷卻裝置配合；

和/或，所述驅(qū)動裝置包括第二限位槽，所述第二限位槽環(huán)繞所述輸出軸，并與所述冷卻裝置配合。