[發(fā)明專利]一種用于液體防護的晶圓清洗裝置

有效

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• 申請日: 2022-05-27
• 公開（公告）號: CN114871182B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉長偉;耿克濤;姜巖松;陳理
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波潤華全芯微電子設(shè)備有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 浙江中桓凱通專利代理有限公司 33376
• 代理人: 李美寶

本發(fā)明公開了一種用于液體防護的晶圓清洗裝置，其特征在于，包括：安裝盤，所述安裝盤包括安裝盤本體、開設(shè)于所述安裝盤本體中心的安裝孔，以及設(shè)于所述安裝盤本體頂面并圍繞所述安裝孔的擋板；承片部，所述承片部包括承片臺、支撐柱和擋液罩，所述支撐柱設(shè)于所述安裝孔，所述承片臺連接所述支撐柱頂部，所述擋液罩圍繞所述支撐柱，并且所述擋液罩覆蓋所述安裝孔。本發(fā)明解決了晶圓進行清洗時，液體從承片臺周側(cè)進入安裝盤底部，導(dǎo)致驅(qū)動和傳動的結(jié)構(gòu)損壞的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體行業(yè)晶圓領(lǐng)域，尤其涉及一種用于液體防護的晶圓清洗裝置。

背景技術(shù)

目前，在晶圓加工過程中，需要去除晶圓表面殘留的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層、石英、塑料等污染物，且不破壞晶圓的表面特性。因此，需要對晶圓進行多次清洗。

在單個晶圓的清洗工序中，一般將晶圓放置在承片臺上，通過承片臺周側(cè)的噴嘴噴灑清洗液來沖洗晶圓，同時，承片臺轉(zhuǎn)動，使晶圓的清洗效果更好。但是，清洗液會隨承片臺的側(cè)面流動至承片臺底部，接觸驅(qū)動承片臺和傳動的結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致導(dǎo)致驅(qū)動和傳動的結(jié)構(gòu)損壞。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明提供一種用于液體防護的晶圓清洗裝置，有效解決晶圓進行清洗時，液體從承片臺周側(cè)進入安裝盤底部，導(dǎo)致驅(qū)動和傳動的結(jié)構(gòu)損壞的問題。

本發(fā)明提供一種用于液體防護的晶圓清洗裝置，包括：安裝盤，所述安裝盤包括安裝盤本體、開設(shè)于所述安裝盤本體中心的安裝孔，以及設(shè)于所述安裝盤本體頂面并圍繞所述安裝孔的擋板；承片部，所述承片部包括承片臺、支撐柱和擋液罩，所述支撐柱設(shè)于所述安裝孔，所述承片臺連接所述支撐柱頂部，所述擋液罩圍繞所述支撐柱，并且所述擋液罩覆蓋所述安裝孔。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用該技術(shù)方案后所達到的技術(shù)效果：所述安裝盤用于容納清洗所需的噴嘴等裝置，同時，收集清洗晶圓后流下的清洗液，阻擋清洗液進入安裝盤下方；所述承片臺用于支撐晶圓，部分清洗液尤其是清洗晶圓背部的清洗液沿所述支撐臺的底面和所述支撐柱的側(cè)面流下，因所述擋液罩覆蓋所述安裝孔，所述擋液罩能夠引導(dǎo)清洗液滴落至所述安裝盤的上表面，避免清洗液進入所述安裝孔；另外保留所述安裝孔，可以使所述支撐柱轉(zhuǎn)動更加順暢。

進一步的，所述擋液罩包括：避讓槽，所述避讓槽朝向所述擋板；其中，所述擋板的頂部與所述擋液罩底部齊平或所述擋板的頂部伸入所述避讓槽中。

采用該技術(shù)方案后所達到的技術(shù)效果：所述避讓槽能夠避免所述擋液罩的底面與所述擋板的頂部接觸或干涉，使得所述承片部的轉(zhuǎn)動過程能夠更加順暢，不會與所述擋板發(fā)生摩擦；所述擋板的頂部與所述擋液罩底部齊平或所述擋板的頂部伸入所述避讓槽中，使得所述擋液罩能夠更加有效地阻擋來自側(cè)面的清洗液，提高防水效果。

進一步的，所述擋液罩包括：第一導(dǎo)向面，所述第一導(dǎo)向面朝向所述承片臺，所述第一導(dǎo)向面連接所述支撐柱的側(cè)面和所述擋液罩的側(cè)面。

采用該技術(shù)方案后所達到的技術(shù)效果：所述第一導(dǎo)向面能夠引導(dǎo)清洗液沿所述擋液罩的外壁流動，便于清洗液的收集，避免清洗液積留于所述擋液罩頂面；同時，所述第一導(dǎo)向面為傾斜狀態(tài)，能夠提高所述擋液罩與所述支撐柱的連接強度，使所述擋液罩起到更穩(wěn)定的導(dǎo)液和防水效果。

進一步的，所述承片部包括：第二導(dǎo)向面，所述第二導(dǎo)向面朝向所述擋液罩，所述第二導(dǎo)向面連接所述承片臺的側(cè)面和所述支撐柱的側(cè)面。

采用該技術(shù)方案后所達到的技術(shù)效果：所述第二導(dǎo)向面能夠引導(dǎo)清洗液沿向所述支撐柱流動；同時，所述第二導(dǎo)向面為傾斜狀態(tài)，能夠提高所述承片臺和所述支撐柱的連接效果，提高所述承片臺的穩(wěn)定性。

進一步的，所述晶圓清洗裝置還包括：驅(qū)動裝置和輸出軸，所述輸出軸連接所述驅(qū)動裝置；所述支撐柱包括軸孔，所述輸出軸安裝至所述軸孔內(nèi)。

采用該技術(shù)方案后所達到的技術(shù)效果：所述輸出軸和所述軸孔套接，使得所述支撐柱能夠隨所述輸出軸旋轉(zhuǎn)，所述承片臺上的晶圓隨之旋轉(zhuǎn)，提高清洗效果。