[發明專利]一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉及其制備與應用方法

有效

• 申請號: 202210568180.8
• 申請日: 2022-05-24
• 公開（公告）號: CN115072999B
• 公開（公告）日: 2023-10-27
• 發明（設計）人: 董偉霞;曹體浩;包啟富;李世卓;李萍
• 申請（專利權）人: 景德鎮陶瓷大學
• 主分類號: C03C8/14
• 分類號: C03C8/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉，其特征在于：所述陶瓷釉原料的重量百分比組成為：高嶺土1～5wt%、改性熔塊72～77wt%、熔融石英19～25wt%、析晶劑1～2wt%。

2.根據權利要求1所述的陶瓷釉，其特征在于：所述改性熔塊的化學百分比組成為：K₂O4.81%、Na₂O 8.56%、MgO 2.85%、CaO 12.81%、B₂O₃ 6.82%、Al₂O₃ 8.00%、SiO₂51.30%、TiO₂4.30%、P₂O₅ 0.55%。

3.根據權利要求1所述的陶瓷釉，其特征在于：所述析晶劑為改性二氧化鈦，熔融石英顆粒細度≤500μm。

4.根據權利要求3所述的陶瓷釉，其特征在于：所述熔融石英顆粒細度優選為≤10μm。

5.根據權利要求1所述陶瓷釉的制備方法，其特征在于：首先將所述陶瓷釉原料中的改性熔塊進行球磨制成粉體，然后按原料：氧化鋁球磨子：水=1:2:0.4～1.0的質量比例向球磨罐中分別加入高嶺土、改性熔塊、熔融石英、析晶劑、氧化鋁球磨子和水進行混合球磨，所述混合球磨的細度篩余0.03～0.06%，對過篩后釉料進行陳腐即得到陶瓷釉料。

6.根據權利要求5所述陶瓷釉的制備方法，其特征在于：所述改性熔塊經球磨制成粉體的方式為干法球磨或濕法球磨，所述干法球磨的方式為將改性熔塊與氧化鋁球磨子按質量比1:2的方式搭配，在球磨60min后將改性熔塊過250目篩；濕法球磨的方式為將改性熔塊與氧化鋁球磨子和水按質量比為1:2:0.4～1.0的方式搭配，在球磨30min后將漿料過250目篩，并在烘干后對其進行研磨制粉，所述粉體的細度篩余0.03～0.06%。

7.根據權利要求5所述陶瓷釉的制備方法，其特征在于：所述混合球磨后漿料過325目篩，陳腐時間為24h，陶瓷釉料的細度≤100μm。

8.根據權利要求7所述陶瓷釉的制備方法，其特征在于：所述陶瓷釉料的細度優選為≤60μm。

9.根據權利要求5所述陶瓷釉的應用方法，其特征在于：所述陶瓷釉料施于坯體后，經干燥，在氧化氣氛條件下于燒成溫度1200～1220℃、保溫時間30～60min的燒成制度下燒成，獲得超親水自潔陶瓷釉面。

10.根據權利要求9所述陶瓷釉的應用方法，其特征在于：所述釉面的潤濕角為3.003～4.421°，釉面白度為73.51～75.95，釉面硬度為695.86～720.88 kg/mm²，易潔性A為0.40～0.55 g/m²。