[發(fā)明專利]一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉及其制備與應用方法

有效

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• 申請日: 2022-05-24
• 公開（公告）號: CN115072999B
• 公開（公告）日: 2023-10-27
• 發(fā)明（設計）人: 董偉霞;曹體浩;包啟富;李世卓;李萍
• 申請（專利權(quán)）人: 景德鎮(zhèn)陶瓷大學
• 主分類號: C03C8/14
• 分類號: C03C8/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉及其制備與應用方法，所述陶瓷釉原料的重量百分比組成為：高嶺土1～5wt%、改性熔塊72～77wt%、熔融石英19～25wt%、析晶劑1～2wt%。本發(fā)明通過配方設計和工藝調(diào)控，使得制備的釉面平整光滑，并且釉面的潤濕角小于10°，具有良好的親水效果，釉面與水之間存在較高的親和力，表面施加該釉的建筑衛(wèi)生陶瓷被污漬污染后，用少量的水進行沖洗，由于水更加親和釉面，污漬被抬升，其在釉面的附著性減弱，從而易于被清潔。同時本發(fā)明陶瓷釉成本低廉、工藝簡單、可規(guī)模化生產(chǎn)，對于高檔性能陶瓷產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進步和應用發(fā)展具有促進作用，因此具有廣闊的市場空間。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷釉料技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉及其制備與應用方法。

背景技術(shù)

隨著社會生產(chǎn)力的發(fā)展，人類對自然資源的開發(fā)利用在很多方面已經(jīng)接近或超過環(huán)境承受的限度，各行業(yè)均在向綠色、環(huán)保、可持續(xù)的方向發(fā)展。對于陶瓷行業(yè)而言，提高產(chǎn)品的的抗污性可使其易于被清潔，從而起到節(jié)約水資源的作用。因此，開發(fā)具有良好抗污性的陶瓷釉顯得十分必要。目前，關(guān)于超親水的陶瓷研究較少，CN202110859978.3中超親水自清潔釉的涂層所需工藝復雜，生產(chǎn)成本較高。相對于CN202110117271.0和CN202110709000.9，本發(fā)明中通過引入熔融石英和析晶劑，促使釉面從紫外光譜向可見光光譜移動，大大提高了釉面對可見光的響應能力，相應的釉面在經(jīng)過多次沖洗后，仍具有較好的抗污效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種成本低廉、工藝簡單、可規(guī)模化生產(chǎn)，在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉及其制備與應用方法。

本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：一種在可見光響應下具有超親水自潔陶瓷釉，其特征在于：所述陶瓷釉原料的重量百分比組成為：高嶺土1～5wt%、改性熔塊72～77wt%、熔融石英19～25wt%、析晶劑1～2wt%。

所述改性熔塊的化學百分比組成為：K₂O 4.81%、Na₂O 8.56%、MgO 2.85%、CaO12.81%、B₂O₃ 6.82%、Al₂O₃ 8.00%、SiO₂51.30%、TiO₂ 4.30%、P₂O₅ 0.55%。

所述析晶劑為改性二氧化鈦，熔融石英顆粒細度≤500μm。

所述熔融石英顆粒細度優(yōu)選為≤10μm。

所述陶瓷釉的制備方法，其特征在于：首先將所述陶瓷釉原料中的改性熔塊進行球磨制成粉體，然后按原料：氧化鋁球磨子：水=1:2:0.4～1.0的質(zhì)量比例向球磨罐中分別加入高嶺土、改性熔塊、熔融石英、析晶劑、氧化鋁球磨子和水進行混合球磨，所述混合球磨的細度篩余0.03～0.06%，對過篩后釉料進行陳腐即得到陶瓷釉料。

所述改性熔塊經(jīng)球磨制成粉體的方式為干法球磨或濕法球磨，所述干法球磨的方式為將改性熔塊與氧化鋁球磨子按質(zhì)量比1:2的方式搭配，在球磨60min后將改性熔塊過250目篩；濕法球磨的方式為將改性熔塊與氧化鋁球磨子和水按質(zhì)量比為1:2:0.4～1.0的方式搭配，在球磨30min后將漿料過250目篩，并在烘干后對其進行研磨制粉，所述粉體的細度篩余0.03～0.06%。

所述混合球磨后漿料過325目篩，陳腐時間為24h，陶瓷釉料的細度≤100μm。

所述陶瓷釉料的細度優(yōu)選為≤60μm。

所述陶瓷釉的應用方法，其特征在于：所述陶瓷釉料施于坯體后，經(jīng)干燥，在氧化氣氛條件下于燒成溫度1200～1220℃、保溫時間30～60min的燒成制度下燒成，獲得超親水自潔陶瓷釉面。