[發明專利]一種對準誤差的量測方法及系統

有效

• 申請號: 202210565869.5
• 申請日: 2022-05-24
• 公開（公告）號: CN114660907B
• 公開（公告）日: 2022-08-26
• 發明（設計）人: 楊學人
• 申請（專利權）人: 合肥晶合集成電路股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 王積毅

1.一種對準誤差的量測方法，其特征在于，包括以下步驟：

選取多個待測晶圓，且所述待測晶圓上設置有多個對準標記；

依據至所述待測晶圓中心的距離，將每個所述待測晶圓劃分為多個待測區域；

在每個所述待測區域內選取至少一個待測曝光區域；

在每個所述待測曝光區域內選取多個量測點，且每個所述量測點在所述待測晶圓上對應設置有所述對準標記；以及

獲取每個所述量測點與所述對準標記的誤差為所述對準誤差；

其中，在每個所述待測區域內選取所述待測曝光區域的方法包括：

在每個所述待測區域的半徑方向上，依據每個所述待測區域內需要選取的所述待測曝光區域的數量，將所述待測區域劃分為多個子待測區域；以及

在每個所述子待測區域內選取一個曝光區域為所述待測曝光區域。

2.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，選取多個所述待測晶圓的方法包括：

依據每個所述待測晶圓的量測時間，獲取每個所述待測晶圓上所述量測點的數量；以及

依據所需所述量測點的總數量，以及每個所述待測晶圓上所述量測點的數量，獲取所述待測晶圓的數量。

3.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，每個所述子待測區域的徑向尺寸為：所述待測區域的徑向尺寸/每個所述待測區域內選取的所述待測曝光區域的數量。

4.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，在每個所述待測區域內，相鄰所述待測曝光區域之間的夾角通過以下公式獲取：

X=（360°/a）±b；

其中，X為相鄰所述待測曝光區域之間的夾角，a為每個所述待測區域內選取的所述待測曝光區域的數量，b為預設角度。

5.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，當每個所述待測晶圓上的所述待測曝光區域選取完成后，將選取的所述待測曝光區域的位置信息存儲在信息保存單元內。

6.根據權利要求5所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，在后一個所述待測晶圓上選取所述待測曝光區域時，選取所述待測曝光區域的位置信息未被存儲在信息保存單元內，且與上一個所述待測晶圓上所述待測曝光區域最遠的曝光區域為所述待測曝光區域。

7.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，當所述待測區域中的曝光區域完全被選取為所述待測曝光區域后，依照第一輪所述待測曝光區域的選取順序，依次將第一輪中選取的所述曝光區域作為所述待測曝光區域。

8.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，在每個所述待測曝光區域內選取多個所述量測點的方法包括：

選取每個所述待測曝光區域的中心點作為中心量測點。

9.根據權利要求1所述的一種對準誤差的量測方法，其特征在于，在每個所述待測曝光區域內選取多個所述量測點的方法還包括：

以所述待測曝光區域的中心作為中心點，將所述待測曝光區域區分為多個象限；以及

在每個所述象限內選取一個點位作為量測點。

10.一種對準誤差的量測系統，其特征在于，至少包括：

待測晶圓獲取單元，用于選取多個待測晶圓；

待測區域劃分單元，用于依據至所述待測晶圓中心的距離，將每個所述待測晶圓劃分為多個待測區域；

待測曝光區域獲取單元，用于在每個所述待測區域內選取至少一個待測曝光區域，其中，在每個所述待測區域內選取所述待測曝光區域的方法包括：在每個所述待測區域的半徑方向上，依據每個所述待測區域內需要選取的所述待測曝光區域的數量，將所述待測區域劃分為多個子待測區域；以及在每個所述子待測區域內選取一個曝光區域為所述待測曝光區域；

量測點獲取單元，用于在每個所述待測曝光區域內選取多個量測點，且每個所述量測點在所述待測晶圓上對應設置有對準標記；以及

對準誤差獲取單元，用于獲取每個所述量測點與所述對準標記的誤差為所述對準誤差。