[發明專利]光罩版清潔裝置

在審

• 申請號: 202210563067.0
• 申請日: 2022-05-18
• 公開（公告）號: CN114995052A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 孫宏
• 申請（專利權）人: 上海圖靈智算量子科技有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種光罩版清潔裝置，用于清潔光罩版，所述光罩版清潔裝置包括：機架、第一槽和第二槽；所述第一槽設于所述機架，所述第一槽用于盛裝清洗藥液，所述光罩版浸入清洗藥液；所述第二槽設于所述機架，第二槽與所述第一槽間隔設置，所述第二槽用于沖洗所述光罩版。利用第一槽盛裝清洗藥液，并將光罩版浸入清洗藥液中，從而可以全面、徹底的溶解污染物，再利用第二槽對光罩版進行沖洗，可以更加徹底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版殘留雜物，進而能夠提高光刻工藝產品良率，減少光刻制程缺陷的產生。同時，設置第一槽和第二槽，可以同步完成兩個光罩版的清潔操作，能夠提高光罩版清潔裝置的清潔效率。

技術領域

本發明涉及芯片制造領域，特別涉及一種光罩版清潔裝置。

背景技術

光罩版也叫光掩膜版、掩膜版，光罩版是光刻工藝所使用的圖形母版。光罩版可以在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，從而便于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光。光罩版應用十分廣泛，涉及光刻工藝的領域幾乎都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(PrintedCircuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統)等。

在光刻制程過程中，常常會產生光刻制程灰塵，光罩版可能會被灰塵或其他原因污染，從而影響光刻工藝產品的良率。

發明內容

本發明要解決的技術問題是為了克服現有技術中光罩版在使用過程中會被污染的上述缺陷，提供一種光罩版清潔裝置。

本發明是通過下述技術方案來解決上述技術問題：

一種光罩版清潔裝置，用于清潔光罩版，所述光罩版清潔裝置包括：機架、第一槽和第二槽；所述第一槽設于所述機架，所述第一槽用于盛裝清洗藥液，所述光罩版浸入清洗藥液；所述第二槽設于所述機架，第二槽與所述第一槽間隔設置，所述第二槽用于沖洗所述光罩版。

在本方案中，通過采用以上結構，利用第一槽盛裝清洗藥液，并將光罩版浸入清洗藥液中，從而可以全面、徹底的溶解污染物，再利用第二槽對光罩版進行沖洗，可以更加徹底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版殘留雜物，進而能夠提高光刻工藝產品良率，減少光刻制程缺陷的產生。同時，設置第一槽和第二槽，可以同步完成兩個光罩版的清潔操作，能夠提高光罩版清潔裝置的清潔效率。

較佳地，所述光罩版清潔裝置還包括簾部，所述簾部設于所述第一槽，所述簾部用于噴出清洗液以對所述光罩版沖洗。

在本方案中，通過采用以上結構，利用簾部對光罩版進行沖洗，可以更加徹底的沖掉光罩版上的殘留清洗藥液及污染物。

較佳地，所述簾部包括順次相連通的進管、儲液腔及出口，清洗液經所述進管流入所述儲液腔，清洗液經所述出口噴至所述光罩版。

在本方案中，通過采用以上結構，利用儲液腔可以穩定清洗液的壓力，使得清洗液流動更加穩定、可控。簾部包括順次相連通的進管、儲液腔及出口，結構簡單，便于裝配。

較佳地，所述出口的高度與所述光罩版靠近所述出口的側邊的高度相應；

和/或，所述出口的長度大于所述光罩版靠近所述出口的側邊的長度；

和/或，所述進管包括干管及若干支管，所述干管通過所述支管與所述儲液腔相連通，若干所述支管沿所述儲液腔的長度方向均勻間隔設置。

在本方案中，通過采用以上結構，出口的高度與光罩版靠近出口的側邊的高度相應，使得清洗液能夠直接沖洗光罩版。

出口的長度大于光罩版靠近出口的側邊的長度，能夠更加全面地清洗光罩版，避免光罩版出現死角。