[發(fā)明專(zhuān)利]光罩版清潔裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210563067.0 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114995052A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫宏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海圖靈智算量子科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/82 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/82 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光罩版 清潔 裝置 | ||
1.一種光罩版清潔裝置,用于清潔光罩版,其特征在于,所述光罩版清潔裝置包括:
機(jī)架;
第一槽,所述第一槽設(shè)于所述機(jī)架,所述第一槽用于盛裝清洗藥液,所述光罩版浸入清洗藥液;
第二槽,所述第二槽設(shè)于所述機(jī)架,第二槽與所述第一槽間隔設(shè)置,所述第二槽用于沖洗所述光罩版。
2.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括簾部,所述簾部設(shè)于所述第一槽,所述簾部用于噴出清洗液以對(duì)所述光罩版沖洗。
3.如權(quán)利要求2所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述簾部包括順次相連通的進(jìn)管、儲(chǔ)液腔及出口,清洗液經(jīng)所述進(jìn)管流入所述儲(chǔ)液腔,清洗液經(jīng)所述出口噴至所述光罩版。
4.如權(quán)利要求3所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述出口的高度與所述光罩版靠近所述出口的側(cè)邊的高度相應(yīng);
和/或,所述出口的長(zhǎng)度大于所述光罩版靠近所述出口的側(cè)邊的長(zhǎng)度;
和/或,所述進(jìn)管包括干管及若干支管,所述干管通過(guò)所述支管與所述儲(chǔ)液腔相連通,若干所述支管沿所述儲(chǔ)液腔的長(zhǎng)度方向均勻間隔設(shè)置。
5.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述第一槽的底面與水平面的夾角的范圍為7°-25°;所述第一槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下傾斜;
所述第二槽的底面與水平面的夾角的范圍為7°-25°;所述第二槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下傾斜。
6.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括若干支撐件,若干所述支撐件間隔設(shè)于所述第一槽的底部,所述光罩版放置于所述支撐件的上側(cè)面;
或者,所述支撐件的上側(cè)面設(shè)于防滑臺(tái)階;
和/或,所述光罩版清潔裝置還包括矩形槽,所述矩形槽設(shè)于所述第一槽的側(cè)面;
和/或,所述光罩版清潔裝置還包括圓形槽,所述圓形槽設(shè)于所述第一槽的側(cè)面。
7.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括沖洗口,所述沖洗口設(shè)于所述第二槽,所述沖洗口用于流出沖洗液。
8.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括第一排廢管道,所述第一排廢管道用于將所述第一槽內(nèi)的液體排放置所述光罩版清潔裝置的外部;
和/或,所述光罩版清潔裝置還包括第二排廢管道,所述第二排廢管道用于將所述第二槽內(nèi)的液體排放置所述光罩版清潔裝置的外部。
9.如權(quán)利要求1所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括抽氣組件,所述抽氣組件設(shè)于所述機(jī)架的頂部,所述第一槽及所述第二槽的上方形成操作空間,所述抽氣組件用于將所述操作空間內(nèi)的氣體排放置所述光罩版清潔裝置的外部。
10.如權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的光罩版清潔裝置,其特征在于,所述光罩版清潔裝置還包括通信連接的第一腳踏操作部、第一控制部及第一執(zhí)行部,所述第一腳踏操作部設(shè)于靠近所述第一槽的地面,所述第一腳踏操作部用于向所述第一控制部發(fā)出開(kāi)啟信號(hào);所述第一控制部用于接收所述開(kāi)啟信號(hào),所述第一控制部還用于向所述第一執(zhí)行部發(fā)出啟動(dòng)信號(hào);所述第一執(zhí)行部用于接收所述啟動(dòng)信號(hào),所述第一執(zhí)行部還用于打開(kāi)所述第一槽的簾部;
和/或,所述光罩版清潔裝置還包括通信連接的第二腳踏操作部、第二控制部及第二執(zhí)行部,所述第二腳踏操作部設(shè)于靠近所述第二槽的地面,所述第二腳踏操作部用于向所述第二控制部發(fā)出開(kāi)啟信號(hào);所述第二控制部用于接收所述開(kāi)啟信號(hào),所述第二控制部還用于向所述第二執(zhí)行部發(fā)出啟動(dòng)信號(hào);所述第二執(zhí)行部用于接收所述啟動(dòng)信號(hào),所述第二執(zhí)行部還用于打開(kāi)所述第二槽的沖洗口。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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