[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210553406.7 | 申請日: | 2019-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN114883323B | 公開(公告)日: | 2023-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吉田一磨;大河亮介;井上翼 | 申請(專利權(quán))人: | 新唐科技日本株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/06 | 分類號: | H01L27/06;H01L29/78;H01L23/31;H10N97/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 高迪 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,是面朝下安裝芯片尺寸封裝型的半導(dǎo)體裝置,在電池的充放電電路中,被用于1A以上的瞬時充放電的電流控制,且該半導(dǎo)體裝置在硅基板上形成有多個元件,
所述半導(dǎo)體裝置具有串聯(lián)連接電路,該串聯(lián)連接電路由相互并聯(lián)連接的多個電阻元件、與在所述瞬時充放電時瞬時成為導(dǎo)通狀態(tài)的晶體管元件不經(jīng)由其他元件地串聯(lián)連接而成,
所述半導(dǎo)體裝置的厚度是250μm以上,
構(gòu)成所述串聯(lián)連接電路的全部元件被形成在所述硅基板上,
所述多個電阻元件被分散配置在所述半導(dǎo)體裝置的平面視面積的一半以上的區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,
所述半導(dǎo)體裝置的厚度是350μm以上。
3.一種半導(dǎo)體裝置,是面朝下安裝芯片尺寸封裝型的半導(dǎo)體裝置,在電池的充放電電路中,被用于1A以上的瞬時充放電的電流控制,且該半導(dǎo)體裝置在硅基板上形成有多個元件,
所述半導(dǎo)體裝置具有串聯(lián)連接電路,該串聯(lián)連接電路由相互并聯(lián)連接的多個電阻元件、與在所述瞬時充放電時瞬時成為導(dǎo)通狀態(tài)的晶體管元件不經(jīng)由其他元件地串聯(lián)連接而成,
所述半導(dǎo)體裝置的體積是1.94mm3以上,
構(gòu)成所述串聯(lián)連接電路的全部元件被形成在所述硅基板上,
所述多個電阻元件被分散配置在所述半導(dǎo)體裝置的平面視面積的一半以上的區(qū)域。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體裝置,
所述半導(dǎo)體裝置的體積是2.20mm3以上。
5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,
所述半導(dǎo)體裝置的體積是3.05mm3以上。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





