[發明專利]研磨液供給裝置及研磨機

有效

• 申請號: 202210552475.6
• 申請日: 2022-05-18
• 公開（公告）號: CN114833725B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 劉志偉;周慶亞;劉福強;田洪濤
• 申請（專利權）人: 北京晶亦精微科技股份有限公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02;B24B37/34;H01L21/306
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 王月

1.一種研磨液供給裝置，其特征在于，包括：

供液管路，具有出液端，所述供液管路的出液端適于設置于拋光墊的上方，以滴落研磨液至所述拋光墊上；

吹氣組件，設于所述供液管路的出液端一側，用于向所述研磨液吹氣，以使所述研磨液均勻分布在所述拋光墊上；所述吹氣組件包括供氣管和至少一個第一噴嘴，所述第一噴嘴設于所述研磨液滴落點的一側并位于所述拋光墊轉動方向的前端；所述供氣管的進氣端通入氣體，所述第一噴嘴安裝于所述供氣管的出氣端上，所述氣體為惰性氣體；以及

位置調節組件，所述位置調節組件包括驅動件及與所述驅動件驅動連接的旋轉塊，所述第一噴嘴固定于所述旋轉塊上；

所述驅動件，用于驅動所述旋轉塊旋轉并帶動其上的第一噴嘴轉動，以調整所述第一噴嘴的出氣方向。

2.如權利要求1所述的研磨液供給裝置，其特征在于，所述研磨液供給裝置還包括擺臂和第二噴嘴，所述供液管路至少部分安裝于所述擺臂上，所述第二噴嘴安裝于所述擺臂上；

所述第二噴嘴，用于將所述拋光墊自轉上一圈殘留的研磨液吹落到所述拋光墊外；

所述擺臂，用于移動所述第二噴嘴和所述供液管路至所述拋光墊的上方。

3.如權利要求1所述的研磨液供給裝置，其特征在于，所述供氣管上設有壓力傳感器，以用于檢測氣體壓力。

4.一種研磨機，其特征在于，包括如權利要求1～3任一項所述的研磨液供給裝置。

5.如權利要求4所述的研磨機，其特征在于，所述研磨機還包括機座、拋光墊和拋光頭，所述拋光墊轉動設置于所述機座上并用于放置待研磨晶圓，所述拋光頭的研磨端與所述拋光墊上的待研磨晶圓相抵，以對所述待研磨晶圓進行拋光處理；其中，所述研磨液供給裝置的供液管路和吹氣組件分別設于所述拋光墊的上方。