[發明專利]一種氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池、其制備方法及應用在審
| 申請號: | 202210540492.8 | 申請日: | 2022-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN115000209A | 公開(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發明(設計)人: | 臺啟東;張祥;張丹 | 申請(專利權)人: | 武漢大學 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/0392;H01L31/068;H01L31/18 |
| 代理公司: | 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 石超群 |
| 地址: | 430072 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氟化 界面 修飾 低溫 無機 鈣鈦礦 太陽能電池 制備 方法 應用 | ||
1.一種氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述電池結構從下到上依次為透明導電襯底、電子傳輸層、氟化界面層、無機鈣鈦礦吸光層和碳電極;所述氟化界面層為三氟乙酸鉀。
2.根據權利要求1所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述透明導電襯底為ITO導電玻璃或FTO導電玻璃;所述電子傳輸層為SnO2層;所述無機鈣鈦礦吸光層為CsPbI2Br。
3.一種如權利要求1或2所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:配制SnO2前驅體分散液,在清潔后的透明導電襯底表面旋涂SnO2前驅體分散液,退火得到SnO2電子傳輸層;
S2:配制三氟乙酸鉀前驅體溶液,在步驟S1得到的SnO2電子傳輸層表面旋涂三氟乙酸鉀前驅體溶液,退火得到三氟乙酸鉀氟化界面層;
S3:配制CsPbI2Br前驅體溶液,在步驟S2得到的三氟乙酸鉀氟化界面層表面旋涂CsPbI2Br前驅體溶液,退火得到CsPbI2Br無機鈣鈦礦吸光層;
S4:在步驟S3得到的CsPbI2Br無機鈣鈦礦吸光層表面涂布碳電極,退火得到氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池。
4.根據權利要求3所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟S1在空氣環境中完成;所述步驟S2、S3和S4在惰性氣氛中完成。
5.根據權利要求3所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟S1中,具體操作方法如下:將SnO2納米顆粒或膠體分散在水中,攪拌均勻,得到濃度為2wt%-10wt%的SnO2前驅體分散液,在透明導電襯底表面旋涂SnO2前驅體分散液,300-500rpm旋轉3-5s,2000-4000rpm旋轉20-40s,40-150℃退火30-60min得到SnO2電子傳輸層。
6.根據權利要求3所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟S2中,具體操作方法如下:將三氟乙酸鉀添加到乙酸乙酯溶劑中,濃度為0.1-1.0mg/ml,攪拌至完全溶解,在SnO2電子傳輸層表面旋涂三氟乙酸鉀前驅體溶液,300-500rpm旋轉3-5s,2000-4000rpm旋轉20-40s,40-120℃退火5-15min得到三氟乙酸鉀氟化界面層。
7.根據權利要求3所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟S2中,旋涂三氟乙酸鉀前驅體溶液前,先采用紫外臭氧預處理SnO2電子傳輸層5-15min。
8.根據權利要求3所述的氟化界面層修飾的低溫碳基無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟S3中,具體操作如下:將CsI,PbI2(DMSO)絡合物,PbBr2(DMSO)絡合物和Pb(Ac)2添加劑按照摩爾比1:0.5:0.5:0.02混合添加到體積比1:3-4的二甲基亞砜和二甲基甲酰胺混合溶劑中,摩爾濃度為0.9-1.1M,攪拌至完全溶解得到CsPbI2Br前驅體溶液;在三氟乙酸鉀氟化界面層表面旋涂CsPbI2Br前驅體溶液,1000-1500rpm旋轉10-15s,3000-4000rpm旋轉30-40s,在旋涂結束前的15-20s,滴加綠色反溶劑乙酸乙酯,110-130℃退火10-15min得到CsPbI2Br無機鈣鈦礦吸光層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢大學,未經武漢大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210540492.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





