[發明專利]一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法在審
| 申請號: | 202210502816.9 | 申請日: | 2022-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN114657376A | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 邵振;陳飛榮 | 申請(專利權)人: | 江蘇和達電子科技有限公司 |
| 主分類號: | C22B3/44 | 分類號: | C22B3/44;C23F1/46 |
| 代理公司: | 上海新泊利知識產權代理事務所(普通合伙) 31435 | 代理人: | 朱曉敏 |
| 地址: | 212212 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 顯示 蝕刻 廢液 回收 系統 方法 | ||
本發明提供一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法,包括依次連接的反應槽、螺旋回流槽,反應槽內含有蝕刻廢液以及與蝕刻廢液反應的陽離子無機添加劑,通過向反應槽中投入陽離子無機添加劑,得到絮凝物和絮凝后的蝕刻廢液,然后根據蝕刻新液的配置要求,利用絮凝后的蝕刻廢液配制蝕刻新液,配制的蝕刻新液提升了銅承載力,并可控制一定的反應速率,使得蝕刻液的生產滿足生產的要求。
技術領域
本發明屬于回收處理技術領域,具體涉及一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法。
背景技術
蝕刻液,是一種銅版畫雕刻用原料。通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體。目前被廣泛應用于生產印刷線路板(PCB)的蝕刻工藝的蝕刻液包括堿性蝕刻液和酸性蝕刻液,酸性蝕刻液主要成分為氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨,堿性蝕刻液主要成分為氯化銅、氨水、氯化銨,酸性蝕刻液和堿性蝕刻液對印刷線路板(PCB)蝕刻時產生蝕刻廢液,如果不對蝕刻廢液進行回收處理,不僅會對資源造成浪費,也會造成蝕刻廢液中的銅離子等金屬離子以及酸堿性等物質直接排放到水中對環境造成污染。
現有技術中對蝕刻廢液進行回收處理時,回收得到的蝕刻廢液配制成新液后的蝕刻液銅承載力和蝕刻速率變差,降低蝕刻液蝕刻效果。
發明內容
本發明的目的在于提供一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法,以解決上述背景技術中提出的回收得到的蝕刻廢液配制成新液后的蝕刻液銅承載力和蝕刻速率變差的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收系統,包括依次連接的反應槽、螺旋回流槽,所述反應槽內含有與蝕刻廢液反應的陽離子無機添加劑。
作為進一步的改進,還包括與螺旋回流槽連接的過濾系統。
一種用于顯示制程蝕刻廢液的回收方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟1:將蝕刻廢液輸送入反應槽,并向反應槽中投入陽離子無機添加劑,對蝕刻廢液處理;
步驟2:將步驟1中的蝕刻廢液輸送入螺旋回流槽,進行沉降分離,得到產成品。
作為進一步的改進,將步驟2中螺旋回流槽中的沉降物通過過濾系統,進行過濾,得到產成品,過濾系統的設置,可以將螺旋回流槽中的沉降物和蝕刻廢液進行過濾,沉降物過濾出來后進行濾渣外運,用于其他方面,過濾出來的蝕刻廢液為產成品。
作為進一步的改進,所述陽離子無機添加劑包括單陽離子無機添加劑、多陽離子無機添加劑中的一種或者兩種的組合。
作為進一步的改進,所述單陽離子無機添加劑包括聚硅酸類無機添加劑、聚磷酸類無機添加劑中的一種或者兩種的組合。
作為進一步的改進,所述多陽離子無機添加劑包括聚合硫酸氯化鐵鋁。
作為進一步的改進,所述聚硅酸類無機添加劑包括聚硅酸、聚硅酸硫酸鐵、聚硅酸鐵、聚合聚鐵硅中的一種或者幾種的混合。
作為進一步的改進,所述聚磷酸類無機添加劑包括聚磷氯化鐵、聚磷氯化鋁中的一種或兩種的混合。
作為進一步的改進,所述陽離子無機添加劑占蝕刻廢液百分比質量為1%-6%。
作為進一步的改進,所述陽離子無機添加劑占蝕刻廢液百分比質量的1.5%-4.5%。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:本發明中提供的顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法,可以對蝕刻廢液進行回收再利用,制成蝕刻新液,提高了蝕刻廢液的使用壽命,并且避免蝕刻廢液直接排放對環境造成污染;
另外顯示制程蝕刻廢液的回收系統及方法中通過陽離子無機添加劑的添加,不僅可以絮凝蝕刻廢液中的雜質,還可以提升蝕刻廢液銅承載力和控制蝕刻速率,使得回收的蝕刻廢液作為蝕刻液配制的原料能夠滿足生產質量標準。
附圖說明
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