[發(fā)明專利]半導(dǎo)體工藝周期的靜態(tài)仿真方法、系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210467484.5
• 申請(qǐng)日: 2022-04-29
• 公開（公告）號(hào): CN115062568A
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王曉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/33
• 分類號(hào): G06F30/33;G06F113/18
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 郭鳳杰

本公開涉及一種半導(dǎo)體工藝周期的靜態(tài)仿真方法、系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)設(shè)備和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。其中，半導(dǎo)體工藝周期的靜態(tài)仿真方法，包括：獲取目標(biāo)工藝步驟的標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間；獲取目標(biāo)工藝步驟的歷史周期時(shí)間；根據(jù)所述歷史周期時(shí)間、所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間以及時(shí)間變量，獲取所述目標(biāo)工藝步驟在第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)的預(yù)估周期時(shí)間，所述預(yù)估周期時(shí)間的值在所述第一預(yù)設(shè)時(shí)間的開始時(shí)刻與所述歷史周期時(shí)間相同，所述預(yù)估周期時(shí)間的值在所述第一預(yù)設(shè)時(shí)間的結(jié)束時(shí)刻與所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間相同。本公開實(shí)施例可以有效提高仿真準(zhǔn)確度。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及半導(dǎo)體模擬仿真技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種半導(dǎo)體工藝周期的 靜態(tài)仿真方法、系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)設(shè)備和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，出現(xiàn)了對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)過程的模擬仿真技術(shù)。模擬 仿真預(yù)估的方式包括靜態(tài)仿真方式與動(dòng)態(tài)仿真方式。同時(shí)，芯片材料進(jìn)入一個(gè) 步驟進(jìn)行加工，從上一站出站，到加工完成離開當(dāng)前站點(diǎn)，叫一個(gè)Step(or Operation)，其開始到結(jié)束的時(shí)間叫Step Cycle Time(簡(jiǎn)稱CT)。

目前，靜態(tài)仿真方式通常為，在做生產(chǎn)模擬的時(shí)候，按照一個(gè)固定的生產(chǎn) 流程和給定的每個(gè)步驟的標(biāo)準(zhǔn)CT，按照時(shí)間經(jīng)行預(yù)測(cè)的方式；動(dòng)態(tài)仿真方式 通常為，在做生產(chǎn)模擬的時(shí)候，在系統(tǒng)中建立生產(chǎn)資源(比如設(shè)備名單)、產(chǎn)品 加工流程順序和標(biāo)準(zhǔn)的加工時(shí)間(Process Time)，讓材料在虛擬的生產(chǎn)環(huán)境中發(fā) 生類似現(xiàn)實(shí)世界的加工方式、進(jìn)出設(shè)備，而較多的材料會(huì)自動(dòng)發(fā)生在設(shè)備前面 排隊(duì)待加工。動(dòng)態(tài)仿真方式雖然可以實(shí)現(xiàn)高準(zhǔn)確度的仿真預(yù)估，但是其難度大、 成本高。在需要降低成本時(shí)，可以使用靜態(tài)態(tài)預(yù)估方式。

但是，目前的靜態(tài)仿真方式準(zhǔn)確度較低，難以對(duì)生產(chǎn)過程進(jìn)行良好的仿真 預(yù)估。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，針對(duì)上述技術(shù)問題，本公開實(shí)施例提供一種能夠提高仿真準(zhǔn)確度 半導(dǎo)體工藝周期的靜態(tài)仿真方法、系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)設(shè)備和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。

一種半導(dǎo)體工藝周期的靜態(tài)仿真方法，包括：

獲取目標(biāo)工藝步驟的標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間；

獲取目標(biāo)工藝步驟的歷史周期時(shí)間；

根據(jù)所述歷史周期時(shí)間、所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間以及時(shí)間變量，獲取所述目標(biāo) 工藝步驟在第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)的預(yù)估周期時(shí)間，所述預(yù)估周期時(shí)間的值在所述第 一預(yù)設(shè)時(shí)間的開始時(shí)刻與所述歷史周期時(shí)間相同，所述預(yù)估周期時(shí)間的值在所 述第一預(yù)設(shè)時(shí)間的結(jié)束時(shí)刻與所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間相同。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述根據(jù)所述歷史周期時(shí)間、所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間以 及時(shí)間變量，獲取所述目標(biāo)工藝步驟在第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)的預(yù)估周期時(shí)間，包括：

獲取關(guān)于時(shí)間變量的漸變函數(shù)，當(dāng)所述時(shí)間變量在所述第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)依 次取值時(shí)，所述漸變函數(shù)的值由1漸變至0或由0漸變至1；

根據(jù)所述歷史周期時(shí)間、所述標(biāo)準(zhǔn)周期時(shí)間以及所述漸變函數(shù)，獲取所述 目標(biāo)工藝步驟在第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)的預(yù)估周期時(shí)間。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述獲取所述目標(biāo)工藝步驟在第一預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)的預(yù) 估周期時(shí)間之后，還包括：

刷新所述歷史周期時(shí)間；

根據(jù)刷新后的所述歷史周期時(shí)間，更新所述預(yù)估周期時(shí)間。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)預(yù)設(shè)頻率，刷新所述歷史周期時(shí)間。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)頻率為每小時(shí)刷新一次。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述刷新所述歷史周期時(shí)間，包括：

獲取在刷新時(shí)刻之前的第二預(yù)設(shè)時(shí)間之內(nèi)經(jīng)歷過所述目標(biāo)工藝步驟的各個(gè) 批次的運(yùn)行時(shí)間；

根據(jù)刷新時(shí)刻之前的第二預(yù)設(shè)時(shí)間之內(nèi)經(jīng)歷過所述目標(biāo)工藝步驟的各個(gè)批 次的運(yùn)行時(shí)間，刷新所述歷史周期時(shí)間。