[發明專利]半導體工藝周期的靜態仿真方法、系統、計算機設備

在審

• 申請號: 202210467484.5
• 申請日: 2022-04-29
• 公開（公告）號: CN115062568A
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發明（設計）人: 王曉
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G06F30/33
• 分類號: G06F30/33;G06F113/18
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 郭鳳杰

1.一種半導體工藝周期的靜態仿真方法，其特征在于，包括：

獲取目標工藝步驟的標準周期時間；

獲取目標工藝步驟的歷史周期時間；

根據所述歷史周期時間、所述標準周期時間以及時間變量，獲取所述目標工藝步驟在第一預設時間內的預估周期時間，所述預估周期時間的值在所述第一預設時間的開始時刻與所述歷史周期時間相同，所述預估周期時間的值在所述第一預設時間的結束時刻與所述標準周期時間相同。

2.根據權利要求1所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述根據所述歷史周期時間、所述標準周期時間以及時間變量，獲取所述目標工藝步驟在第一預設時間內的預估周期時間，包括：

獲取關于時間變量的漸變函數，當所述時間變量在所述第一預設時間內依次取值時，所述漸變函數的值由1漸變至0或由0漸變至1；

根據所述歷史周期時間、所述標準周期時間以及所述漸變函數，獲取所述目標工藝步驟在第一預設時間內的預估周期時間。

3.根據權利要求1或2所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述獲取所述目標工藝步驟在第一預設時間內的預估周期時間之后，還包括：

刷新所述歷史周期時間；

根據刷新后的所述歷史周期時間，更新所述預估周期時間。

4.根據權利要求3所述的靜態仿真方法，其特征在于，根據預設頻率，刷新所述歷史周期時間。

5.根據權利要求4所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述預設頻率為每小時刷新一次。

6.根據權利要求3所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述刷新所述歷史周期時間，包括：

獲取在刷新時刻之前的第二預設時間之內經歷過所述目標工藝步驟的各個批次的運行時間；

根據刷新時刻之前的第二預設時間之內經歷過所述目標工藝步驟的各個批次的運行時間，刷新所述歷史周期時間。

7.根據權利要求1或6所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述獲取目標工藝步驟的歷史周期時間，包括：

獲取仿真時刻之前的第二預設時間之內經歷過所述目標工藝步驟的各個批次的運行時間；

根據仿真時刻之前的第二預設時間之內經歷過所述目標工藝步驟的各個批次的運行時間，獲取所述歷史周期時間。

8.根據權利要求2所述的靜態仿真方法，其特征在于，當所述時間變量在所述第一預設時間內依次取值時，所述漸變函數的值在0至1之間圓滑漸變。

9.根據權利要求2所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述根據所述歷史周期時間、所述標準周期時間以及所述漸變函數，獲取所述目標工藝步驟在第一預設時間內的預估周期時間的運算表達式為：

CT₁＝L*y₁(x)+S*(1-y₁(x))，

其中，CT₁為預估周期時間，L為歷史周期時間，S為標準周期時間，y₁為漸變函數，x為時間變量，當x在所述第一預設時間內依次取值時，y₁的值由1漸變至0。

10.根據權利要求9所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述第一預設時間為24小時。

11.根據權利要求10所述的靜態仿真方法，其特征在于，所述漸變函數的運算表達式為：

y₁(x)＝(cos((3.14159265/24)*x)+1)/2。