[發(fā)明專利]一種超低輪廓銅箔及制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210464789.0
• 申請日: 2022-04-25
• 公開（公告）號: CN114657609A
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李建國;張燕聰
• 申請（專利權(quán)）人: 福建新崳柔性材料科技有限公司
• 主分類號: C25D1/04
• 分類號: C25D1/04;C25D5/48;C25D5/56;C23C14/08;C23C14/20;C23C14/35;C23C28/00;C23C28/02
• 代理公司: 福州市鼓樓區(qū)年盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35254
• 代理人: 李曉娟

1.一種超低輪廓銅箔，其特征在于：包括有機(jī)薄膜層、過渡金屬層和金屬剝離層及銅箔層；

有機(jī)薄膜層為載體，過渡金屬層位于有機(jī)薄膜層上表面，金屬剝離層位于過渡金屬層表面，銅箔層位于金屬剝離層表面；

有機(jī)薄膜層厚度為25-125μm，過渡金屬層為20-150nm，金屬剝離層為1-5μm，銅箔層厚度為1-18μm。

2.如權(quán)利要求1所述的一種超低輪廓銅箔，其特征在于：所述銅箔層的表面還覆蓋有抗氧化膜。

3.如權(quán)利要求2所述的一種超低輪廓銅箔，其特征在于：所述金屬剝離層表面設(shè)置有抗氧化層。

4.如權(quán)利要求3所述的一種超低輪廓銅箔，其特征在于：所述抗氧化層為有機(jī)溶劑覆蓋層。

5.如權(quán)利要求1所述的一種超低輪廓銅箔，其特征在于：所述有機(jī)薄膜層為PET膜或PI膜。

6.如權(quán)利要求1所述的一種超低輪廓銅箔，其特征在于：所述過渡金屬層材質(zhì)為鎳、銅、鉻、鈦或鐵，或者為鎳、銅、鉻、鈦、鐵中兩者或兩者以上的合金；所述金屬剝離層材質(zhì)為銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鋁、氧化鈮中的一種或多種。

7.一種超低輪廓銅箔的制備方法，其特征在于：

包括以下步驟：

S1，對有機(jī)薄膜層的上表面進(jìn)行等離子表面處理；

S2，在機(jī)薄膜層的上表面采用磁控濺射鍍一層過渡金屬層；

S3，在過渡金屬層表面電鍍一層金屬剝離層；

S4，在金屬剝離層表面電鍍一層銅箔層。

8.如權(quán)利要求7所述的一種超低輪廓銅箔的制備方法，其特征在于：步驟S3還包括在所述金屬剝離層表面設(shè)置抗氧化層，抗氧化層為所述金屬剝離層采用浸泡或涂覆方式形成的有機(jī)溶劑覆蓋層。

9.如權(quán)利要求7所述的一種超低輪廓銅箔的制備方法，其特征在于：步驟S4還包括在對銅箔層表面進(jìn)行粗化面處理，同步在其粗面化處理面上實(shí)施電化學(xué)處理或化學(xué)處理形成抗氧化膜，粗化面處理方式為電鍍銅微細(xì)粒子的粗化電鍍、化學(xué)刻蝕處理或電化學(xué)刻蝕處理中的一種。

10.如權(quán)利要求7所述的一種超低輪廓銅箔的制備方法，其特征在于：步驟S1中在真空室內(nèi)對有機(jī)薄膜層的上表面進(jìn)行等離子表面處理，等離子處理功率為0.5-2KW，真空室內(nèi)氣體為氬氣、氮?dú)夂脱鯕庵幸环N或多種氣體，氣體壓力為1×10^-2-2×10²Pa；步驟S2中采用磁控濺射鍍層時(shí)，靶材為銅、鎳、鎳鉻合金、鈦、鐵、氧化鈮中的一種或多種，磁控濺射的氣體為氬氣、氮?dú)夂脱鯕庵幸环N或多種混合氣體，真空度為2×10^-1-3×10^-3Pa，靶電流5-15A。