[發(fā)明專利]太陽能電池及其生產(chǎn)方法、生產(chǎn)系統(tǒng),光伏組件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210448598.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114937705A | 公開(公告)日: | 2022-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊苗;曲銘浩;徐希翔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安隆基樂葉光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0216 | 分類號(hào): | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/06;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京潤(rùn)澤恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 趙娟 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市國家民用*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 及其 生產(chǎn) 方法 系統(tǒng) 組件 | ||
本發(fā)明提供了一種太陽能電池及其生產(chǎn)方法、生產(chǎn)系統(tǒng),光伏組件,涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域。太陽能電池包括:硅基底;在硅基底的向光面的局部區(qū)域有至少一個(gè)第一摻雜區(qū)域;各個(gè)第一摻雜區(qū)域的摻雜類型和硅基底的摻雜類型均相同,且各個(gè)第一摻雜區(qū)域的摻雜濃度均大于硅基底的摻雜濃度;依次層疊分布在硅基底、以及第一摻雜區(qū)域的向光側(cè)上的化學(xué)鈍化膜、場(chǎng)鈍化減反射膜;位于硅基底的向光側(cè)的至少一個(gè)正面柵線電極;至少一個(gè)正面柵線電極和至少一個(gè)第一摻雜區(qū)域相互接觸。本發(fā)明的太陽能電池中,俄歇復(fù)合較少,工藝匹配性能好,具有良好的光電轉(zhuǎn)換效率,且可以降低生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種太陽能電池及其生產(chǎn)方法、生產(chǎn)系統(tǒng),光伏組件。
背景技術(shù)
由于具有較高的光電轉(zhuǎn)換效率潛力,太陽能電池具有廣闊的應(yīng)用前景。
然而,現(xiàn)有的太陽能電池在光電轉(zhuǎn)換效率的提升中,依然存在一些困難。目前,主要通過改變部分結(jié)構(gòu)能夠適當(dāng)解決部分問題。但是,現(xiàn)有的太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率的還有較大的提升空間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種太陽能電池及其生產(chǎn)方法、生產(chǎn)系統(tǒng),光伏組件,旨在解決現(xiàn)有的太陽能電池工藝匹配性較差,導(dǎo)致光電轉(zhuǎn)換效率較低的問題。
本發(fā)明的第一方面,提供一種太陽能電池,包括:
硅基底;
在所述硅基底的向光面的局部區(qū)域有至少一個(gè)第一摻雜區(qū)域;各個(gè)所述第一摻雜區(qū)域的摻雜類型和所述硅基底的摻雜類型均相同,且各個(gè)所述第一摻雜區(qū)域的摻雜濃度均大于所述硅基底的摻雜濃度;
依次層疊分布在所述硅基底、以及所述第一摻雜區(qū)域的向光側(cè)上的化學(xué)鈍化膜、場(chǎng)鈍化減反射膜;
位于所述硅基底的向光側(cè)的至少一個(gè)正面柵線電極;至少一個(gè)所述正面柵線電極和至少一個(gè)所述第一摻雜區(qū)域相互接觸。
本發(fā)明中,向光側(cè)包括的化學(xué)鈍化膜可以起到良好的化學(xué)鈍化的作用,場(chǎng)鈍化減反射膜可以起到良好的場(chǎng)鈍化以及減反射的作用,基本能夠達(dá)到非晶硅的表面鈍化能力。且上述化學(xué)鈍化膜、場(chǎng)鈍化減反射膜均對(duì)入射光的短波和可見光的吸收較弱或基本無吸收,可以減少太陽能電池的短路電流的損失。同時(shí),第一摻雜區(qū)域只是分布在硅基底的向光面局部區(qū)域上,沒有第一摻雜區(qū)域的位置基本不會(huì)存在俄歇復(fù)合,因此,第一摻雜區(qū)域帶來的俄歇復(fù)合相對(duì)較少,工藝匹配性較好,可以減少由于俄歇復(fù)合引起的短路電流和開路電壓的損失。同時(shí),本發(fā)明中,硅基底的向光側(cè)的第一摻雜區(qū)域、化學(xué)鈍化膜、場(chǎng)鈍化減反射膜無需使用非晶硅鍍膜設(shè)備、透明導(dǎo)電氧化物鍍膜設(shè)備,可以大幅度減少生產(chǎn)設(shè)備的成本以及生產(chǎn)設(shè)備所占用的空間,如,大體降低一半的生產(chǎn)設(shè)備的成本以及一半的生產(chǎn)設(shè)備所占用的空間。另外硅基底的向光面無需設(shè)置透明導(dǎo)電氧化物薄膜也可以降低生產(chǎn)成本。
可選的,每個(gè)所述第一摻雜區(qū)域的最高摻雜濃度為:2×1019/cm3-5×1020/cm3。
可選的,每個(gè)所述第一摻雜區(qū)域的深度為0.1-0.5um;所述第一摻雜區(qū)域的深度所在的方向,與所述化學(xué)鈍化膜和所述場(chǎng)鈍化減反射膜的層疊方向平行。
可選的,所述化學(xué)鈍化膜包括:氧化硅膜或氧化鋁膜;和/或,所述場(chǎng)鈍化減反射膜包括氮化硅薄膜。
可選的,所述場(chǎng)鈍化減反射膜的折射率為1.9-2.2。
可選的,所述太陽能電池還包括:位于所述場(chǎng)鈍化減反射膜向光側(cè)的減反射膜。
可選的,所述減反射膜的材料選自氮氧化硅。
可選的,所述太陽能電池還包括:依次層疊分布在所述硅基底的背光側(cè)的本征非晶硅膜、與所述硅基底摻雜類型不同的摻雜非晶硅膜、透明導(dǎo)電氧化物薄膜、以及背面電極;
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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