[發明專利]一種基底制作定形方法及基底在審
| 申請號： | 202210418324.1 | 申請日： | 2022-04-20 |
| 公開（公告）號： | CN114769372A | 公開（公告）日： | 2022-07-22 |
| 發明（設計）人： | 閆光;楊光;張忠平;李真 | 申請（專利權）人： | 希羅鏡下醫療科技發展（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B21D5/00 | 分類號： | B21D5/00;B21C51/00 |
| 代理公司： | 北京中和立達知識產權代理有限公司 11756 | 代理人： | 楊磊 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區中國(上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基底 制作 定形 方法 | ||
1.一種基底的制作定形方法，其特征在于，所述方法包括：
制造步驟，制作用于定形的基底；
彎曲步驟，等溫彎曲基底，獲得彎曲角度α，以如下方式修正彎曲半徑R0：
其中，k為修正系數，h為基底在被彎曲至最大程度的狀態下最高點與最低點之間的距離，A為基底在被彎曲至最大程度的狀態下左右兩端的距離，S為基底的厚度。
2.根據權利要求1所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述彎曲步驟利用沖壓的方式彎曲基底，所述彎曲步驟還包括：
確定相對角度誤差：
確定彎曲半徑誤差：
其中，α為被測角度，αa為凹模角度，Ra為凹模半徑，R為基底在被彎曲后回彈至最大程度的狀態下的半徑。
3.根據權利要求1所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述彎曲步驟還包括：
以彎曲步驟中所采用的成型模具的尺寸為基準，以控制變量的方式，分別測試與基底相對軋制方向不同角度、不同彎曲溫度、不同保壓時間下基底彎曲后彎曲角度回彈制，以獲得最佳彎曲條件。
4.根據權利要求1所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述制造步驟中的基底采用鎳鈦合金制備，尤其為TiNi-02。
5.根據權利要求2所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述彎曲步驟還包括：將彎曲后的基底置入模具中，在載荷的作用下保壓不少于3min的時間。
6.根據權利要求3所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述彎曲步驟還包括：彎曲溫度被依次設置為25℃、n℃，n為100℃的整數倍。
7.根據權利要求3所述的一種基底的制作定形方法，其特征在于：所述彎曲步驟還包括：基底相對軋制方向角度被設置為0°、45°、90°。
8.一種基底，其特征在于，所述基底是由如權利要求1至7中所述的方法制作的。
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