[發(fā)明專利]一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210404494.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114807864B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬(wàn)喆;亢寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘭州交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/26;C23C14/54 |
| 代理公司: | 安徽思沃達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34220 | 代理人: | 趙瑜 |
| 地址: | 730070 甘*** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)熱 均勻 噴射 范圍 可調(diào) 蒸發(fā) | ||
本發(fā)明公開了一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源,屬于真空蒸鍍領(lǐng)域,包括底座,所述底座的上側(cè)設(shè)有外罩,所述外罩的內(nèi)側(cè)可拆卸設(shè)有坩堝,所述外罩的內(nèi)壁且對(duì)應(yīng)坩堝的底壁位置處設(shè)有稱重器,所述坩堝包括外筒和內(nèi)筒,所述外罩的內(nèi)部還設(shè)有加熱器;所述加熱器包括設(shè)置第一電熱圈和第二電熱圈,所述第一電熱圈設(shè)置在外筒的外側(cè),所述第二電熱圈設(shè)置在內(nèi)筒的內(nèi)側(cè),所述內(nèi)筒的內(nèi)側(cè)和內(nèi)筒的外側(cè)之間共同形成放置腔,放置腔用于存放鍍膜材料。本發(fā)明對(duì)鍍膜材料加熱更加均勻,提升蒸發(fā)速率,可根據(jù)不同尺寸的基片調(diào)節(jié)鍍膜材料的噴射范圍,另外,蒸發(fā)源在真空室內(nèi)的橫向和豎向位置可調(diào)節(jié),滿足更多的實(shí)際蒸鍍需求,應(yīng)用更加廣泛。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源。
背景技術(shù)
真空蒸鍍,簡(jiǎn)稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù),具有成膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能獨(dú)特等優(yōu)點(diǎn)。
經(jīng)檢索,中國(guó)專利號(hào)CN?110144550?B公開了一種蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備,該蒸發(fā)源包括:支撐體,設(shè)置有第一容置腔;坩堝,包括用于容置蒸鍍材料的第二容置腔;所述坩堝設(shè)置于所述第一容置腔內(nèi),且位于所述支撐體的支撐面上,通過所述支撐面,所述支撐體能夠支撐所述坩堝;壓力傳感器,設(shè)置于所述支撐面上,且所述坩堝抵壓在所述壓力傳感器上。
現(xiàn)有技術(shù)中的蒸發(fā)源在實(shí)際使用時(shí)存在如下不足:蒸發(fā)源對(duì)鍍膜材料的加熱不均勻,材料蒸發(fā)升華速度快,效率低,并且材料的噴射范圍固定,在實(shí)際使用時(shí),噴射范圍無法根據(jù)不同尺寸的基片進(jìn)行調(diào)節(jié),因此本發(fā)明在此提出一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,而提出的一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源,包括底座,所述底座的上側(cè)設(shè)有外罩,所述外罩的內(nèi)側(cè)可拆卸設(shè)有坩堝,所述外罩的內(nèi)壁且對(duì)應(yīng)坩堝的底壁位置處設(shè)有稱重器,所述坩堝包括外筒和內(nèi)筒,所述外罩的內(nèi)部還設(shè)有加熱器;
所述加熱器包括設(shè)置第一電熱圈和第二電熱圈,所述第一電熱圈設(shè)置在外筒的外側(cè),所述第二電熱圈設(shè)置在內(nèi)筒的內(nèi)側(cè),所述內(nèi)筒的內(nèi)側(cè)和內(nèi)筒的外側(cè)之間共同形成放置腔,放置腔用于存放鍍膜材料;
所述坩堝的上側(cè)可拆卸設(shè)有齒環(huán),所述齒環(huán)的下側(cè)設(shè)有處于放置腔內(nèi)的攪拌軸,所述齒環(huán)通過電機(jī)和齒輪驅(qū)動(dòng);
所述齒環(huán)的上側(cè)滑動(dòng)設(shè)有導(dǎo)流盤,所述導(dǎo)流盤內(nèi)設(shè)有導(dǎo)流腔,所述導(dǎo)流盤的上側(cè)開設(shè)有多個(gè)噴孔,所述噴孔的底部且位于導(dǎo)流腔的內(nèi)側(cè)設(shè)有開合機(jī)構(gòu);
所述噴孔的上側(cè)可拆卸設(shè)有噴嘴。
進(jìn)一步地,所述開合機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在導(dǎo)流腔且固定在噴孔下側(cè)的滑軸,所述滑軸滑動(dòng)安裝有與噴孔的底部相匹配的密封板,所述滑軸的底部以及密封板的底壁共同安裝有彈簧;
所述噴嘴包括與噴孔螺紋安裝的噴管,所述噴管的頂部安裝有旋鈕,所述噴管的底部通過多個(gè)支柱固定有推環(huán),所述噴管的底部與支柱之間設(shè)有多個(gè)出料孔。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)流盤的底部開設(shè)有環(huán)形槽,所述攪拌軸的頂部通過滑塊滑動(dòng)設(shè)置在環(huán)形槽內(nèi);
所述攪拌軸上安裝有多個(gè)攪拌齒。
進(jìn)一步地,所述齒環(huán)的底壁與外筒的頂端滑動(dòng)連接,所述齒環(huán)的齒牙與齒輪的齒牙相互嚙合,所述電機(jī)固定在外罩外壁的頂部。
進(jìn)一步地,所述外筒的外壁固定有滑條,所述外罩的頂部開設(shè)有與滑條相匹配的滑孔。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





