[發(fā)明專利]一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210404494.4 | 申請日: | 2022-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114807864B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬喆;亢寧 | 申請(專利權(quán))人: | 蘭州交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/26;C23C14/54 |
| 代理公司: | 安徽思沃達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34220 | 代理人: | 趙瑜 |
| 地址: | 730070 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)熱 均勻 噴射 范圍 可調(diào) 蒸發(fā) | ||
1.一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源,包括底座(1),其特征在于,所述底座(1)的上側(cè)設(shè)有外罩(2),所述外罩(2)的內(nèi)側(cè)可拆卸設(shè)有坩堝(3),所述外罩(2)的內(nèi)壁且對應(yīng)坩堝(3)的底壁位置處設(shè)有稱重器(12),所述坩堝(3)包括外筒(31)和內(nèi)筒(32),所述外罩(2)的內(nèi)部還設(shè)有加熱器(4);
所述加熱器(4)包括設(shè)置第一電熱圈(41)和第二電熱圈(42),所述第一電熱圈(41)設(shè)置在外筒(31)的外側(cè),所述第二電熱圈(42)設(shè)置在內(nèi)筒(32)的內(nèi)側(cè),所述內(nèi)筒(32)的內(nèi)側(cè)和內(nèi)筒(32)的外側(cè)之間共同形成放置腔,放置腔用于存放鍍膜材料;
所述坩堝(3)的上側(cè)可拆卸設(shè)有齒環(huán)(8),所述齒環(huán)(8)的下側(cè)設(shè)有處于放置腔內(nèi)的攪拌軸(9),所述齒環(huán)(8)通過電機(jī)(11)和齒輪(10)驅(qū)動(dòng);
所述齒環(huán)(8)的上側(cè)滑動(dòng)設(shè)有導(dǎo)流盤(5),所述導(dǎo)流盤(5)內(nèi)設(shè)有導(dǎo)流腔(51),所述導(dǎo)流盤(5)的上側(cè)開設(shè)有多個(gè)噴孔(6),所述噴孔(6)的底部且位于導(dǎo)流腔(51)的內(nèi)側(cè)設(shè)有開合機(jī)構(gòu);
所述噴孔(6)的上側(cè)可拆卸設(shè)有噴嘴(7);
所述開合機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在導(dǎo)流腔(51)且固定在噴孔(6)下側(cè)的滑軸(62),所述滑軸(62)滑動(dòng)安裝有與噴孔(6)的底部相匹配的密封板(61),所述滑軸(62)的底部以及密封板(61)的底壁共同安裝有彈簧(63);
所述噴嘴(7)包括與噴孔(6)螺紋安裝的噴管(71),所述噴管(71)的頂部安裝有旋鈕(75),所述噴管(71)的底部通過多個(gè)支柱(72)固定有推環(huán)(73),所述噴管(71)的底部與支柱(72)之間設(shè)有多個(gè)出料孔(74);
所述導(dǎo)流盤(5)的底部開設(shè)有環(huán)形槽(52),所述攪拌軸(9)的頂部通過滑塊滑動(dòng)設(shè)置在環(huán)形槽(52)內(nèi);
所述攪拌軸(9)上安裝有多個(gè)攪拌齒;
所述齒環(huán)(8)的底壁與外筒(31)的頂端滑動(dòng)連接,所述齒環(huán)(8)的齒牙與齒輪(10)的齒牙相互嚙合,所述電機(jī)(11)固定在外罩(2)外壁的頂部;
所述外筒(31)的外壁固定有滑條(33),所述外罩(2)的頂部開設(shè)有與滑條(33)相匹配的滑孔(21);
所述導(dǎo)流盤(5)的外壁安裝有輔助電熱圈(18);
在導(dǎo)流盤(5)的內(nèi)壁安裝方管,在坩堝(3)的內(nèi)筒(32)上側(cè)安裝有方軸(17),方軸(17)的頂部與方管插設(shè)配合,避免在攪拌軸(9)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)導(dǎo)流盤(5)隨意轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源,其特征在于,所述底座(1)的底壁安裝有橫向座(13),所述橫向座(13)與橫向支架(14)安裝,所述橫向支架(14)的兩端與豎向支架(15)安裝,所述豎向支架(15)與真空室的內(nèi)壁安裝。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種導(dǎo)熱均勻且噴射范圍可調(diào)的蒸發(fā)源,其特征在于,所述橫向支架(14)包括橫向絲桿,所述橫向絲桿與橫向座(13)螺紋安裝,所述橫向絲桿的兩端轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有豎向座(16);
所述豎向支架(15)包括豎向絲桿,所述豎向座(16)與豎向絲桿螺紋安裝。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘭州交通大學(xué),未經(jīng)蘭州交通大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210404494.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種自卸料散貨船舶
- 下一篇:一種草酰氯單酯的制備方法
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





