[發明專利]一種反應腔裝置及微波等離子體氣相沉積系統

有效

• 申請號: 202210378897.6
• 申請日: 2022-04-12
• 公開（公告）號: CN114457323B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 黃春林;陳森林;李俊宏;季宇
• 申請（專利權）人: 成都紐曼和瑞微波技術有限公司
• 主分類號: C23C16/511
• 分類號: C23C16/511;C23C16/52
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 孔鵬

本發明提供了一種反應腔裝置及微波等離子體氣相沉積系統，屬于微波等離子體領域。上述反應腔裝置包括反應腔殼體，反應腔殼體一端設置有調節組件另一端設置有封堵組件；或者，反應腔殼體的兩端均設置有調節組件。調節組件包括滑塊，滑塊滑動插接在反應腔殼體內，并能夠被固定于預設位置；反應腔殼體內能夠形成密閉腔體。使用時，先將封堵組件打開，并將待鍍膜桿件放入到反應腔殼體內；然后通過適當移動調節組件的滑塊來調整反應腔殼體內的長度空間，從而使得反應腔殼體內部空間與待鍍膜桿件的長度相適應。上述調節組件的設置，使得反應腔裝置能夠在一定范圍內適應不同長度的待鍍膜桿件，提高了其使用范圍。

技術領域

本發明涉及微波等離子體設備領域，具體而言，涉及一種反應腔裝置及微波等離子體氣相沉積系統。

背景技術

微波等離子體 CVD （Microwave PCVD, MPCVD）將微波發生器產生的微波用波導管經隔離器進入反應腔，并通入 CH4與 H2的混合氣體，在微波的激勵下，在反應腔內產生輝光放電，使反應氣體的分子離化，產生等離子體，在襯底上沉積得到金剛石膜。而現有的反應腔腔體一般尺寸固定，難以適應不同長度的桿狀待鍍膜件。

發明內容

本發明的目的在于提供一種反應腔裝置，其反應腔殼體內部空間可以根據實際需要調節，從而適應不同長度的待鍍膜桿件。

本發明的另一目的在于提供一種微波等離子體氣相沉積系統，其采用了上述反應腔裝置。

本發明是這樣實現的：

一種反應腔裝置，包括反應腔殼體，所述反應腔殼體一端設置有調節組件另一端設置有封堵組件；或者，所述反應腔殼體的兩端均設置有調節組件；

所述調節組件包括滑塊，所述滑塊滑動插接在所述反應腔殼體內，并能夠被固定于預設位置；所述反應腔殼體內能夠形成密閉腔體。

進一步地，所述調節組件還包括套筒、端蓋和內筒；

所述套筒套設在所述滑塊上，所述套筒一端與所述反應腔殼體端部連接，另一端與所述端蓋連接；

所述內筒一端與所述端蓋密封連接，另一端與所述滑塊密封連接；所述內筒軸向可伸縮。

進一步地，所述調節組件還包括外筒，所述外筒設置在所述套筒內，并套設在所述內筒上；所述外筒一端與所述端蓋密封連接，另一端與所述反應腔殼體端部連接。

進一步地，所述內筒為軸向可壓縮的彈性筒，從而能夠為滑塊施加推力，使得滑塊能夠將帶鍍膜桿件壓緊。

進一步地，所述反應腔殼體的兩端均設置有所述調節組件；

所述反應腔裝置還包括拉動組件，所述拉動組件包括卷筒及兩根拉繩，所述卷筒分別通過兩個拉繩與兩個所述滑塊連接，所述卷筒收繩時，所述滑塊能夠相互遠離。

進一步地，至少一個所述調節組件處設置有進氣組件；

所述進氣組件包括分氣盤及進氣管，所述分氣盤與對應所述調節組件的滑塊外端面連接，所述分氣盤上設置有多個氣孔，對應的滑塊上設置有多個氣道，所述多個氣道與所述反應腔殼體內腔連通，并分別與所述多個氣孔連通；

所述進氣管可滑動地穿過對應所述調節組件端蓋中部，所述進氣管的內端設置有分氣罩，所述分氣罩罩設在所述分氣盤上形成氣體緩存空間；所述進氣管與所述氣體緩存空間連通。

進一步地，所述分氣罩中部設置有通孔，所述通孔靠近所述分氣盤的一端設置有倒角，另一端與所述進氣管連通；

所述分氣盤的中部設置有錐形凸部，所述錐形凸部的端部位于所述通孔內，所述錐形凸部的錐形面與所述倒角的內面間隙設置。