[發明專利]一種反應腔裝置及微波等離子體氣相沉積系統有效
| 申請號: | 202210378897.6 | 申請日: | 2022-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN114457323B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發明(設計)人: | 黃春林;陳森林;李俊宏;季宇 | 申請(專利權)人: | 成都紐曼和瑞微波技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/511 | 分類號: | C23C16/511;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 孔鵬 |
| 地址: | 610000 四川省成都*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反應 裝置 微波 等離子體 沉積 系統 | ||
1.一種反應腔裝置,其特征在于,包括用于微波等離子體氣相沉積系統的反應腔殼體,所述反應腔殼體一端設置有調節組件,另一端設置有封堵組件;或者,所述反應腔殼體的兩端均設置有調節組件;
所述封堵組件與所述反應腔殼體密封連接;
所述調節組件包括滑塊、套筒、端蓋和內筒,所述滑塊用于滑動插接在反應腔殼體內,并能夠被固定于預設位置;所述反應腔殼體內能夠形成密閉腔體;
所述套筒套設在所述滑塊上,所述套筒一端與所述反應腔殼體端部連接,另一端與所述端蓋連接;
所述內筒一端與所述端蓋密封連接,另一端與所述滑塊密封連接;所述內筒軸向可伸縮。
2.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述調節組件還包括外筒,所述外筒設置在所述套筒內,并套設在所述內筒上;所述外筒一端與所述端蓋密封連接,另一端與所述反應腔殼體端部連接。
3.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述內筒能夠給所述滑塊施加推力。
4.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述反應腔殼體的兩端均設置有所述調節組件;
所述反應腔裝置還包括拉動組件,所述拉動組件包括卷筒及兩根拉繩,所述卷筒分別通過兩個拉繩與兩個所述滑塊連接,所述卷筒收繩時,所述滑塊能夠相互遠離。
5.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述調節組件處設置有進氣組件;
所述進氣組件包括分氣盤及進氣管,所述分氣盤與對應所述調節組件的滑塊外端面連接,所述分氣盤上設置有多個氣孔,對應的滑塊上設置有多個氣道,所述多個氣道與所述反應腔殼體內腔連通,并分別與所述多個氣孔連通;
所述進氣管可滑動地穿過對應所述調節組件的端蓋,所述進氣管的內端設置有分氣罩,所述分氣罩罩設在所述分氣盤上形成氣體緩存空間;所述進氣管與所述氣體緩存空間連通。
6.根據權利要求5所述的反應腔裝置,其特征在于,所述分氣罩設置有通孔,所述通孔靠近所述分氣盤的一端設置有倒角,另一端與所述進氣管連通;
所述分氣盤上設置有錐形凸部,所述錐形凸部的端部位于所述通孔內,所述錐形凸部的錐形面與所述倒角的內面間隙設置。
7.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述滑塊的內端面上設置有安裝筒,所述安裝筒一端密封設置有安裝板,另一端與所述滑塊密封連接;所述安裝板的外端面用于固定待鍍膜桿件;
所述安裝筒內還設置有進水管,所述進水管一端與所述滑塊的內端面連接,另一端與所述安裝板間隙設置;所述進水管的外圓周面與所述安裝筒的內圓周面之間形成水流夾層;
所述滑塊上還設置有進水通道及出水通道,所述進水通道與所述進水管連通,所述出水通道與所述水流夾層連通。
8.根據權利要求1所述的反應腔裝置,其特征在于,所述封堵組件包括拆卸桿;所述拆卸桿與所述反應腔殼體可拆卸連接,所述拆卸桿的內端端面設置有固定筒,所述固定筒用于固定待鍍膜桿件。
9.一種微波等離子體氣相沉積系統,其特征在于,包括微波源、微波傳輸組件及權利要求1-8任一項所述的反應腔裝置,所述微波源通過所述微波傳輸組件與所述反應腔裝置連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





