[發明專利]一種雷達清洗裝置、雷達系統及雷達清洗裝置的控制方法

在審

• 申請號: 202210369215.5
• 申請日: 2022-04-08
• 公開（公告）號: CN114632755A
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 智立勃;任銳;劉永剛;馬彥婷;張彥福
• 申請（專利權）人: 阿波羅智能技術（北京）有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00;G01S7/02;G01S13/95
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 陳宏

1.一種雷達清洗裝置，包括多個噴射組件(100)，其特征在于，多個所述噴射組件(100)用于沿雷達(200)的圓周方向分布，所述噴射組件(100)具有噴射腔(1)，與所述噴射腔(1)連通的噴射口(2)，以及與所述噴射腔(1)連通的輸入接口，所述噴射口(2)朝向所述雷達(200)設置，所述輸入接口被配置為用于和液體介質源選擇性連通，且輸入接口被配置為用于和氣體介質源選擇性連通。

2.根據權利要求1所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述輸入接口包括間隔設置的第一通孔(31)和第二通孔(32)，所述第一通孔(31)和所述第二通孔(32)均連通所述噴射腔(1)，所述第一通孔(31)與所述液體介質源選擇性連通，所述第二通孔(32)與所述氣體介質源選擇性連通。

3.根據權利要求2所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述雷達清洗裝置還包括：

第一控制閥，所述第一控制閥通過第一管路分別連接所述第一通孔(31)和所述液體介質源，且所述第一控制閥被配置為控制所述第一管路連通或斷開；

第二控制閥，所述第二控制閥通過第二管路分別連接所述第二通孔(32)和所述氣體介質源，且所述第二控制閥被配置為控制所述第二管路連通或斷開。

4.根據權利要求1所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述噴射口(2)沿所述雷達(200)的圓周方向延伸；和/或，所述噴射口(2)的噴射方向與所述雷達(200)的中心線方向呈夾角設置。

5.根據權利要求1-4任一項所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述噴射組件(100)包括：

基座(4)，用于與所述雷達(200)的外周面貼合；

壓片(6)，設置于所述基座(4)的一側；

支撐片(5)，設置于所述基座(4)和所述支撐片(5)之間，且所述支撐片(5)分別與所述基座(4)和所述壓片(6)貼合，所述噴射腔(1)均由所述基座(4)、所述壓片(6)和所述支撐片(5)三者圍設而成，所述噴射口(2)位于所述基座(4)和所述壓片(6)之間。

6.根據權利要求5所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述噴射腔(1)包括設置于所述基座(4)的凹槽(11)，和設置于所述支撐片(5)的貫通槽(12)；

所述貫通槽(12)的一端連通所述凹槽(11)，所述貫通槽(12)的另一端由所述壓片(6)封閉，所述噴射口(2)連通所述貫通槽(12)和外界，所述輸入接口設置于所述基座(4)。

7.根據權利要求6所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述貫通槽(12)的輪廓重疊于所述凹槽(11)的輪廓。

8.根據權利要求5所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述基座(4)具有傾斜面(42)，所述傾斜面(42)和所述壓片(6)間隔設置并形成所述噴射口(2)，沿所述氣體介質或液體介質的流動方向，所述傾斜面(42)與所述壓片(6)之間的間距逐漸減小。

9.根據權利要求5所述的雷達清洗裝置，其特征在于，所述基座(4)具有導向弧面(41)，所述導向弧面(41)的一端延伸至所述噴射口(2)，所述導向弧面(41)的另一端用于延伸至所述雷達(200)的外周面，所述噴射口(2)的噴射方向與所述導向弧面(41)相切配合，且所述導向弧面(41)能夠與所述雷達(200)的外周面相切配合。

10.一種雷達系統，其特征在于，包括雷達(200)和如權利要求1-9任一項所述的雷達清洗裝置，所述雷達清洗裝置的多個所述噴射組件(100)沿所述雷達(200)的圓周方向分布。