[發明專利]直寫光刻鏡頭

有效

• 申請號: 202210363462.4
• 申請日: 2022-04-08
• 公開（公告）號: CN114442281B
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 陳志特;王華;王重桂;吳中海
• 申請（專利權）人: 東莞銳視光電科技有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/14;G03F7/20
• 代理公司: 深圳市華盛智薈知識產權代理事務所(普通合伙) 44604
• 代理人: 胡國英

本發明涉及光學鏡頭領域，公開了一種直寫光刻鏡頭，該直寫光刻鏡頭包括成像部，所述成像部自物面至像面依次包括：第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、第六透鏡、第七透鏡、第八透鏡以及第九透鏡；定義所述第一透鏡的焦距為f1，所述第一透鏡的物側面近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面；定義所述第七透鏡的焦距為f7，所述第七透鏡的物側面于近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面，具有負屈折力；定義所述第八透鏡的焦距為f8，所述第八透鏡的物側面于近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面，滿足下列關系式：?59mm≤f1≤?52mm；?77mm≤f7≤?45mm；?72mm≤f8≤?45mm。該曝光面照度、均勻性好，且低畸變。

技術領域

本發明涉及光學鏡頭領域，特別涉及一種的直寫光刻鏡頭。

背景技術

光刻技術是用于在襯底表面上印刷具有特征的構圖，紫外曝光機與光刻機在微電子、光學、線路板等微加工領域具有非常重要的應用。光刻機工作原理為由等離子光源發出紫外光，經收集系統收集后，傳輸系統照射到掩膜板上，掩膜板上的紫外光譜圖形經過紫外鏡頭按一定比例精確地縮印到涂有光刻膠的硅片上，經過相關后續工藝的處理后，留下所需的微形圖或電路結構，而電路結構的精密程度又主要取決于紫外鏡頭，紫外鏡頭自然成為光刻機的關重部件。

目前應用于市場的紫外鏡頭由多個透鏡組成的鏡頭組通過鏡筒按照一定間隔尺寸組裝而成，雖然基本能夠實現光刻功能，但是傳統掩膜式曝光機使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式，目前無掩膜光刻機的曝光面照度、均勻性不好。隨著技術的發展，且系統對透鏡邊緣畸變的要求不斷提高的情況下，現有的傳統掩膜式曝光機容易導致最終制備的電路難以滿足需求，所以，在光刻直寫鏡頭的設計方向上，則迫切需求曝光面照度、均勻性好，且低畸變的鏡頭組設計。

發明內容

針對上述問題，本發明的目的在于提供一種直寫光刻鏡頭，該直寫光刻鏡頭曝光面照度、均勻性好，且低畸變。

為解決上述技術問題，本發明的實施方式提供了一種直寫光刻鏡頭，所述直寫光刻鏡頭包括成像部，所述成像部自物面至像面依次包括：第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、第六透鏡、第七透鏡、第八透鏡以及第九透鏡；

定義所述第一透鏡的焦距為f1，所述第一透鏡的物側面的曲率半徑為R1，所述第一透鏡的像側面的曲率半徑為R2，所述第一透鏡的物側面近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面；定義所述第七透鏡的焦距為f7，所述第七透鏡的物側面的曲率半徑為R13，第七透鏡的像側面的曲率半徑為R14，所述第七透鏡的物側面于近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面，具有負屈折力；定義所述第八透鏡的焦距為f8，所述第八透鏡的物側面的曲率半徑為R15，第八透鏡的像側面的曲率半徑為R16，所述第八透鏡的物側面于近軸處為凹面，像側面于近軸處為凹面，滿足下列關系式：

-59mm≤f1≤-52mm；-77mm≤f7≤-45mm；-72mm≤f8≤-45mm；

-40mm≤R1≤-35mm，200mm≤R2≤205mm；-168mm≤R13≤-162mm，33mm≤R14≤38mm；

-33mm≤R15≤-28mm，177mm≤R16≤183mm。

優選的，所述第二透鏡的物側面于近軸處為凹面，像側面于近軸處為凸面，具有正屈折力；定義所述第二透鏡的焦距為f2，定義第二透鏡物側面的曲率半徑R3，第二透鏡像側面的曲率半徑R4，且滿足下列關系式：

143mm≤f2≤151mm；

-162mm≤R3≤-157mm，-60mm≤R4≤-57mm。

優選的，所述第三透鏡的物側面于近軸處為凸面，像側面于近軸處為凸面，具有正屈折力，定義所述第三透鏡的焦距為f3，定義第三透鏡物側面的曲率半徑R5，第三透鏡像側面的曲率半徑R6，且滿足下列關系式：

180mm≤f3≤189mm；