[發(fā)明專利]導電材料、電子裝置及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210306019.3 | 申請日: | 2022-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN114539487A | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳永偉 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | C08F283/06 | 分類號: | C08F283/06;C08F2/44;C08K3/22;C08K3/34;C08J5/18;C08L51/08;H01B5/14 |
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| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電 材料 電子 裝置 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明公開了一種導電材料、電子裝置及其制作方法。該導電材料包括離子單體、交聯(lián)劑、光引發(fā)劑、納米填料以及光吸收劑,其中,離子單體包括固態(tài)導電離子單體。本發(fā)明采用固態(tài)導電離子單體作為離子單體,進而可以避免相關技術中液態(tài)導電材料在固化時,由于蒸發(fā)和泄露,導致電性和機械性能差的問題產(chǎn)生,本發(fā)明提供的導電材料可以提高成膜良率。
技術領域
本發(fā)明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種導電材料、電子裝置及其制作方法。
背景技術
打印技術是一種增材制造工藝,具備無需光罩、非接觸、直接寫入等優(yōu)點,在光電子工業(yè)等領域獲得了廣泛應用,已成為一種可靠、成熟、低成本的圖案化技術。打印技術可以高精度控制材料的位置、形狀及大小。在這一過程中,材料幾無損耗,材料利用率高。同時打印過程簡單,無需昂貴復雜的各種大型設備。
柔性透明導電薄膜(Flexible Transparent Conductive Films,F(xiàn)TCFs)具備優(yōu)良的導電性及可見光穿透性,被廣泛應用于觸摸屏、太陽能電池、發(fā)光器件、智能窗戶、液晶顯示器等光電子器件領域。目前,隨著通訊、物聯(lián)等技術的迅猛發(fā)展,相關器件如無線通訊、柔性電子設備等對TCFs的性能要求越來越高,不僅作為設備的顯示屏,而且還要充當電磁屏蔽材料,保護精密設備免受電磁波的干擾和輻射。
目前,常通過噴墨打印工藝將導電材料制備成導電薄膜,但是,由于噴墨打印中的凝膠在固化過程中,其內(nèi)的液體容易發(fā)生蒸發(fā)和泄露,導致其制備的導電薄膜的電性和機械性能差,而光固化無溶劑離子導電材料雖然可以避免上述問題,但是其過程復雜,將導致成本提高、效率低且良品率差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種導電材料、電子裝置及其制作方法,能夠提高導電材料的成膜良率。
本發(fā)明實施例提供一種導電材料,所述導電材料包括離子單體、交聯(lián)劑、光引發(fā)劑、納米填料以及光吸收劑,其中,所述離子單體包括固態(tài)導電離子單體。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述固態(tài)導電離子單體包括丙烯酸和氯化膽堿的絡合物。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述離子單體占所述導電材料的質(zhì)量百分比為20~80%。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述交聯(lián)劑包括聚乙二醇二丙烯酸酯,所述光引發(fā)劑包括二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦,所述納米填料包括無機蒙脫土或釩石粉中的至少一者,所述光吸收劑包括1-(苯基偶氮)-2-萘酚。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述交聯(lián)劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為5~30%,所述光引發(fā)劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為0~5%,所述納米填料占所述導電材料的質(zhì)量百分比為3~10%,所述光吸收劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為0.5~5%。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述納米填料的粒徑為50~500nm。
根據(jù)本發(fā)明的上述目的,提供一種電子裝置的制作方法,其包括以下步驟:
提供襯底;
采用導電材料在所述襯底上形成導電薄膜,所述導電材料包括離子單體、交聯(lián)劑、光引發(fā)劑、納米填料以及光吸收劑,其中,所述離子單體包括固態(tài)導電離子單體。
在本發(fā)明的一種實施例中,所述固態(tài)導電離子單體包括丙烯酸和氯化膽堿的絡合物,其中,所述離子單體占所述導電材料的質(zhì)量百分比為20~80%;
所述交聯(lián)劑包括聚乙二醇二丙烯酸酯,所述光引發(fā)劑包括二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦,所述納米填料包括無機蒙脫土或釩石粉中的至少一者,所述光吸收劑包括1-(苯基偶氮)-2-萘酚,其中,所述交聯(lián)劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為5~30%,所述光引發(fā)劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為0~5%,所述納米填料占所述導電材料的質(zhì)量百分比為3~10%,所述光吸收劑占所述導電材料的質(zhì)量百分比為0.5~5%。
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