[發(fā)明專利]研磨墊修整器及化學(xué)機(jī)械研磨裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210290740.8
• 申請日: 2022-03-23
• 公開（公告）號: CN114603483A
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊俊男
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: B24B53/017
• 分類號: B24B53/017;B24B37/00;B24B37/34
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 劉鑫

本公開提供了一種研磨墊修整器及化學(xué)機(jī)械研磨裝置，研磨墊修整器包括：修整器本體，包括滾筒和布置在滾筒的周向側(cè)面上的修整顆粒，滾筒沿其延伸方向的長度至少為研磨墊的半徑，滾筒可轉(zhuǎn)動地設(shè)置；修整器本體具有用于壓設(shè)在研磨墊上的工作位置和與研磨墊分離的初始位置，修整器本體在工作位置和初始位置之間可切換地設(shè)置。本發(fā)明的研磨墊修整器解決了現(xiàn)有技術(shù)中的研磨墊活化不均勻的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化學(xué)機(jī)械研磨領(lǐng)域，具體而言，涉及一種研磨墊修整器及化學(xué)機(jī)械研磨裝置。

背景技術(shù)

研磨墊內(nèi)分布著大量的孔隙，孔隙可留存研磨液及提高研磨墊粗糙度，是實(shí)現(xiàn)化學(xué)及機(jī)械研磨的關(guān)鍵。在研磨過程中，研磨殘?jiān)鼤顫M孔隙使研磨墊表面變得光滑失去摩擦力。目前，通過修整器去除表面釉化層以達(dá)到活化研磨墊的目的，可恢復(fù)研磨墊孔隙，保持研磨速率一致性。

然而，目前的修整器多為圓形盤，通過延長桿帶動做往復(fù)運(yùn)動，活化不均勻；切削速率不便于調(diào)節(jié)；由于圓形修整器的設(shè)計缺陷存在邊緣鉆石在運(yùn)動過程中受切力過大，中心及背向邊緣鉆石受切力較小的問題，導(dǎo)致局部失效造成的壽命較短；圓形修整器修復(fù)研磨墊平坦度問題是通過感應(yīng)器掃描形貌并增加局部修整時間，需要購買額外配置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提供一種研磨墊修整器及化學(xué)機(jī)械研磨裝置。

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種研磨墊修整器，研磨墊可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，研磨墊修整器包括：修整器本體，包括滾筒和布置在滾筒的周向側(cè)面上的修整顆粒，滾筒沿其延伸方向的長度至少為研磨墊的半徑，滾筒可轉(zhuǎn)動地設(shè)置；修整器本體具有用于壓設(shè)在研磨墊上的工作位置和與研磨墊分離的初始位置，修整器本體在工作位置和初始位置之間可切換地設(shè)置。

在一些公開實(shí)施例中，在修整器本體處于工作位置時，滾筒沿研磨墊的徑向方向延伸。

在一些公開實(shí)施例中，滾筒沿其延伸方向具有依次布置的第一端和第二端；在修整器本體處于工作位置時，滾筒的第一端延伸至研磨墊的邊緣，滾筒的第二端延伸至研磨墊的中心。

在一些公開實(shí)施例中，研磨墊修整器還包括：第一驅(qū)動件，與滾筒連接，第一驅(qū)動件帶動滾筒沿第一旋轉(zhuǎn)方向和第二旋轉(zhuǎn)方向自轉(zhuǎn)；其中，第一旋轉(zhuǎn)方向和第二旋轉(zhuǎn)方向相反。

在一些公開實(shí)施例中，研磨墊修整器還包括：第二驅(qū)動件，與滾筒連接，以帶動修整器本體在工作位置和初始位置之間切換。

在一些公開實(shí)施例中，第二驅(qū)動件帶動修整器本體可擺動地設(shè)置；在修整器本體處于初始位置時位于研磨墊的側(cè)部。

在一些公開實(shí)施例中，研磨墊修整器還包括：連接桿，包括第一桿段和與第一桿段連接的第二桿段，第一桿段和第二桿段相傾斜設(shè)置；第一桿段插設(shè)在滾筒的連接孔內(nèi)；第二驅(qū)動件與第二桿段連接，第二驅(qū)動件帶動第二桿段可轉(zhuǎn)動地設(shè)置。

在一些公開實(shí)施例中，研磨墊修整器還包括第一驅(qū)動件，第一驅(qū)動件與第一桿段連接，以帶動第一桿段和滾筒同步轉(zhuǎn)動；第二桿段的一端與第一驅(qū)動件連接，第二桿段的另一端與第二驅(qū)動件連接。

在一些公開實(shí)施例中，滾筒上設(shè)置有多個第一修整顆粒組，各個第一修整顆粒組均包括多個修整顆粒；各個第一修整顆粒組的多個修整顆粒的高度均相等。

在一些公開實(shí)施例中，至少兩組第一修整顆粒組的修整顆粒的高度不相等。

在一些公開實(shí)施例中，相鄰兩組第一修整顆粒組的修整顆粒的側(cè)壁呈鈍角。

在一些公開實(shí)施例中，滾筒上設(shè)置有多個修整顆粒，多個修整顆粒包括四面體、六面體、八面體中的一種或多種。

在一些公開實(shí)施例中，滾筒上設(shè)置有多個第二修整顆粒組，各個第二修整顆粒組包括至少一個修整顆粒，多個第二修整顆粒組間隔布置以形成流道。