[發明專利]一種靶材的噴砂方法有效
| 申請號: | 202210282242.9 | 申請日: | 2022-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN114714257B | 公開(公告)日: | 2023-04-21 |
| 發明(設計)人: | 姚力軍;竇興賢;王學澤;王青松;胡全 | 申請(專利權)人: | 合肥江豐電子材料有限公司 |
| 主分類號: | B24C1/08 | 分類號: | B24C1/08;B24C11/00;B24C9/00 |
| 代理公司: | 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659 | 代理人: | 牛海燕 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 噴砂 方法 | ||
本發明提供了一種靶材的噴砂方法,所述噴砂方法包括如下步驟:(1)對靶材的非濺射面進行第一噴砂處理,得到第一噴砂面;(2)第一噴砂面表面覆蓋保護層,進行第二噴砂處理,得到第二噴砂面;(3)升溫去除第二噴砂面表面的保護層,保持溫度進行壓縮氣體吹掃,得到具有干燥噴砂面的靶材;步驟(2)所述保護層的材質包括銦和/或錫。本發明通過第一噴砂處理之后設置材質包括銦和/或錫的保護層,不僅能夠實現對靶材非濺射面的噴砂處理,還能最大程度降低噴砂面清洗后的氧化風險,提高噴砂質量,生產合格率能夠達到99%以上。
技術領域
本發明屬于半導體技術領域,屬于靶材制造技術領域,涉及一種靶材的噴砂方法。
背景技術
隨著半導體行業的快速發展,鍍膜材料作為半導體電子器件制造的重要材料,其需求量也日益增加。靶材作為一種重要的鍍膜材料,在集成電路、平面顯示、太陽能、光學器件等領域具有廣泛的應用,其只要制備方法包括濺射鍍膜、真空蒸鍍、等離子體鍍膜等。
在靶材進行濺射之前,需要進行噴砂處理,以使得靶材獲得較好的機械性能。靶材加工是采用壓縮空氣為動力,以形成高速噴射束將噴料高速噴射到需處理工件表面,使工件表面的外表或形狀發生變化。由于磨料對工件表面的沖擊和切削作用,使工件的表面獲得一定的清潔度和不同的粗糙度,使工件表面的機械性能得到改善,然而由于噴砂面的特性,經過清洗處理后的噴砂面上往往會有清洗液殘留,且在干燥過程中容易使其發生氧化,影響靶材的表觀性能及后續使用。
CN?108202292A公開了一種鋁靶材制作方法,首先形成鋁板,對所述鋁板進行噴砂,將噴砂后的鋁板制作成鋁靶材。由于金屬鋁具有延展性強且硬度低的特點,采用滾壓的拋光方式易將雜質壓入金屬內部,使其難以去除。噴砂方式使采用壓縮空氣為動力,以形成高速噴射束將噴料高速噴射到需要處理的工件表面,由于砂粒對工件表面的沖擊和切削作用,使工件的表面獲得一定的結晶度。其雖然能夠避免拋光帶來的引入雜質的問題,但并未涉及如何避免噴砂后表面的抗氧化問題。
CN?108149203A公開了一種靶材組件的制造方法,包括:提供鉬鈮靶材和背板,鉬鈮靶材的待焊接面為第一焊接面,背板的待焊接面為第二焊接面,對第一焊接面進行表面噴砂處理,在表面噴砂處理后的第一焊接面上涂覆第一焊料層;在第二焊接面上涂覆第二焊料層;將涂覆有第一焊料層的第一焊接面與涂覆有第二焊料層的第二焊接面相對設置并貼合,通過焊接工藝將鉬鈮靶坯焊接至背板上形成靶材組件。其通過在表面噴砂處理后在第一焊接面上涂覆第一焊料層,噴砂處理后可以提高第一焊接面的粗糙度,提高第一焊料層在鉬鈮靶坯上的浸潤性,但并未考慮噴砂面清洗帶來的氧化問題。
CN?112959224A公開了一種靶材噴砂后防氧化的方法,所述方法包括如下步驟:將靶材的非濺射面進行噴砂處理,得到噴砂靶材;將噴砂靶材進行清洗,然后采用壓縮氣體進行吹掃干燥,得到具有干燥噴砂面的靶材。其利用噴砂面的特性采用壓縮空氣對噴砂面進行吹掃,利用高壓氣流加速靶材表面液體的揮發,干燥速率快,無液體殘留,從而防止了靶材噴砂面的氧化。但壓縮氣體吹掃同樣需要時間,在壓縮氣體吹掃過程中仍然存在氧化的風險。
對此,需要提供一種靶材的噴砂方法,以降低靶材噴砂面氧化的風險。
發明內容
針對現有技術存在的不足,本發明的目的在于提供一種靶材的噴砂方法,所述噴砂方法不僅能夠實現對靶材非濺射面的噴砂處理,還能最大程度降低噴砂面清洗后的氧化風險,提高噴砂質量,生產合格率能夠達到99%以上。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
本發明提供了一種靶材的噴砂方法,所述噴砂方法包括如下步驟:
(1)對靶材的非濺射面進行第一噴砂處理,得到第一噴砂面;
(2)第一噴砂面表面覆蓋保護層,進行第二噴砂處理,得到第二噴砂面;
(3)升溫去除第二噴砂面表面的保護層,保持溫度進行壓縮氣體吹掃,得到具有干燥噴砂面的靶材;
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