[發(fā)明專利]一種銀反射鏡、銀反射鏡制備方法及LED芯片

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210278346.2
• 申請(qǐng)日: 2022-03-21
• 公開（公告）號(hào): CN114709310A
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李文濤;孫嘉玉;劉偉;簡(jiǎn)弘安;張星星;胡加輝;金從龍;顧偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西兆馳半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): H01L33/10
• 分類號(hào): H01L33/10;C30B23/00;C30B29/02;C30B29/68;H01L33/06;H01L33/12
• 代理公司: 南昌旭瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 36150
• 代理人: 劉紅偉

1.一種銀反射鏡，其特征在于，包括應(yīng)力緩沖層，所述應(yīng)力緩沖層為Ti層和Pt層依次層疊的周期性結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銀反射鏡，其特征在于，所述銀反射鏡還包括反射層、保護(hù)層、阻擋刻蝕層和粘附層，且所述反射層、所述保護(hù)層、所述應(yīng)力緩沖層、所述阻擋刻蝕層以及所述粘附層依次層疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銀反射鏡，其特征在于，所述Ti層的厚度為1000?~50000?，所述Pt層的厚度為200?~20000?。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銀反射鏡，其特征在于，所述反射層的厚度為500?~3000?，所述保護(hù)層的厚度為100?~2000?，所述阻擋刻蝕層的厚度為100?~20000?，所述粘附層的厚度為50?~200?。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銀反射鏡，其特征在于，所述反射層為Ag層，所述保護(hù)層為Ni層，所述阻擋刻蝕層為Au層、Pt層或者Au層和Pt層依次層疊的混合層，所述粘附層為Ti層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的銀反射鏡，其特征在于，所述阻擋刻蝕層中Au層的厚度為500?~20000?，所述阻擋刻蝕層中Pt層的厚度為100?~3000?。

7.一種銀反射鏡的制備方法，其特征在于，用于制備權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的銀反射鏡，所述制備方法包括：

沉積應(yīng)力緩沖層時(shí)，控制Ti層和Pt層依次交替層疊。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的銀反射鏡的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

提供一晶圓；

在所述晶圓上依次層疊反射層、保護(hù)層、所述應(yīng)力緩沖層、阻擋刻蝕層以及粘附層。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的銀反射鏡的制備方法，其特征在于，所述控制Ti層和Pt層依次交替層疊的周期為2個(gè)~10個(gè)。

10.一種LED芯片，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的銀反射鏡。