[發(fā)明專利]溫度控制的反應(yīng)室

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210270957.2
• 申請(qǐng)日: 2022-03-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115110061A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉川潤(rùn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASMIP私人控股有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種用于處理襯底的設(shè)備，包括：

設(shè)置有室壁的反應(yīng)室；

設(shè)置在壁上的閘閥；

可操作地連接到閘閥的襯底傳送室；

襯底傳送機(jī)器人，其設(shè)置在襯底傳送室內(nèi)，用于通過(guò)閘閥在反應(yīng)室和襯底傳送室之間傳送襯底；

襯底支撐件，其設(shè)置有設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)的加熱器；以及

設(shè)置在與閘閥相對(duì)的壁上的冷卻器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述冷卻器設(shè)置有冷卻通道。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備構(gòu)造和布置成通過(guò)所述冷卻通道提供冷卻流體。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備構(gòu)造和布置成通過(guò)所述冷卻通道提供冷卻液體作為冷卻流體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備構(gòu)造和布置成通過(guò)所述冷卻通道提供包含水和全氟聚醚中的一種的冷卻液體。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備構(gòu)造和布置成通過(guò)所述冷卻通道提供冷卻氣體作為冷卻流體。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備構(gòu)造和布置成通過(guò)所述冷卻通道提供包含空氣、氮?dú)夂投栊詺怏w中的至少一種的冷卻氣體。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括設(shè)置在所述冷卻器和所述壁的內(nèi)表面之間的空間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括設(shè)置在所述閘閥附近的壁上的壁加熱器。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括設(shè)置在所述閘閥附近的壁上的附加壁加熱器。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，還包括設(shè)置在與所述閘閥相對(duì)的壁上的第二壁加熱器。

12.根據(jù)權(quán)利要求9、10和11中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，還包括控制器，用于控制所述冷卻器和至少一個(gè)壁加熱器的溫度。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，所述控制器配置為將與所述閘閥相對(duì)的壁的第一部分的溫度和在所述閘閥附近的壁的一部分的溫度控制為相同值。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括氣體供應(yīng)單元，其構(gòu)造和布置成面向所述襯底支撐件。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述氣體供應(yīng)單元包括設(shè)置有用于向襯底供應(yīng)氣體的多個(gè)孔的噴淋頭。