[發明專利]一種硅基液晶清洗裝置及清洗方法

有效

• 申請號: 202210258005.9
• 申請日: 2022-03-16
• 公開（公告）號: CN114713545B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: 何軍;胡健
• 申請（專利權）人: 南京芯視元電子有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00;A61L2/10;A61L2/26
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 崔熠

1.一種硅基液晶清洗裝置，其特征在于，包括具有容納空間的矩體框架以及在所述矩體框架上圍繞所述容納空間并沿第一方向間隔設置的多個呈U型的固定架，所述固定架所在的平面與所述第一方向垂直，所述固定架包括依次連接的三個子支架，三個所述子支架上分別設有卡槽，所述卡槽的槽口分別朝向所述容納空間設置，還包括轉動設置在所述矩體框架或所述固定架上的清洗組件，所述清洗組件和所述矩體框架沿與所述第一方向垂直的第二方向依次分布；

所述清洗組件包括多個第一藥液噴頭和第二藥液噴頭，所述第一藥液噴頭和所述第二藥液噴頭分別位于所述矩體框架的兩側且成對設置，多個所述第一藥液噴頭和多個所述第二藥液噴頭分別沿所述第一方向成排設置并沿第三方向成列設置，所述第一藥液噴頭和所述第二藥液噴頭的旋轉平面垂直于所述第三方向，所述第三方向分別垂直于所述第一方向和所述第二方向；

所述第一藥液噴頭包括兩個轉動中心重合的第一子藥液噴頭，所述第二藥液噴頭包括兩個轉動中心重合的第二子藥液噴頭，所述第一子藥液噴頭和所述第二子藥液噴頭的轉動中心均位于相鄰的兩個所述硅基液晶的中心面上，兩個所述第一子藥液噴頭和兩個所述第二子藥液噴頭分別相對于所述中心面對稱分布，所述第一子藥液噴頭和所述第二子藥液噴頭沿第二方向的噴吐范圍均大于或等于所述硅基液晶在所述第二方向上的直線尺寸，成對設置的兩個所述第一子藥液噴頭和所述第二子藥液噴頭同時清洗所述硅基液晶的同一位置；

所述第一子藥液噴頭的旋轉角速度ω₁滿足：

所述第二子藥液噴頭的旋轉角速度ω₂滿足：

其中，a為所述第一子藥液噴頭或所述第二子藥液噴頭在所述第一方向上與所述硅基液晶表面之間的垂直距離，b為所述第一子藥液噴頭在所述第二方向上與所述硅基液晶上邊緣之間的垂直距離或所述第二子藥液噴頭在所述第二方向上與所述硅基液晶下邊緣之間的垂直距離，V為所述第一子藥液噴頭或所述第二子藥液噴頭噴出的藥液在所述硅基液晶上的清洗速率，t為清洗的時間。

2.根據權利要求1所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，同一所述固定架上的三個所述卡槽的中心位于同一圓周上。

3.根據權利要求1所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，所述卡槽的截面形狀為矩形或三角形。

4.根據權利要求1所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，一列所述第一藥液噴頭沿所述第三方向的總噴吐范圍和一列所述第二藥液噴頭沿所述第三方向的總噴吐范圍均大于或等于固定在所述固定架上的硅基液晶在所述第三方向上的直線尺寸，成對設置的兩個所述第一藥液噴頭和所述第二藥液噴頭沿所述第二方向的噴吐范圍均大于或等于所述硅基液晶在所述第二方向上的直線尺寸。

5.根據權利要求4所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，單個所述第一藥液噴頭和所述第二藥液噴頭在所述第三方向上的噴吐角度滿足：

其中，θ₁為單個所述第一藥液噴頭或所述第二藥液噴頭噴出的藥液在第三方向上的夾角，c為所述硅基液晶在所述第三方向上的直線尺寸，n為每列所述第一藥液噴頭或每列所述第二藥液噴頭的數量，a為所述第一藥液噴頭或所述第二藥液噴頭在所述第一方向上與所述硅基液晶表面之間的垂直距離，b為所述第一藥液噴頭在所述第二方向上與所述硅基液晶上邊緣之間的垂直距離或所述第二藥液噴頭在所述第二方向上與所述硅基液晶下邊緣之間的垂直距離。

6.根據權利要求1所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，沿所述第一方向相鄰兩個所述卡槽中心線之間的間距為1cm-5cm，所述卡槽的槽深為2mm-5mm。

7.一種硅基液晶清洗方法，采用如權利要求1至6中任意一項所述的硅基液晶清洗裝置，其特征在于，所述方法包括：

將載滿硅基液晶的所述硅基液晶清洗裝置放置于盛有第一清洗藥液的預清洗槽并使所述硅基液晶的板面垂直于所述清洗槽的底面，開啟所述預清洗槽內的第一超聲裝置并清洗第一預設時間；

將預清洗后的所述硅基液晶清洗裝置轉移至傳動平臺并使所述硅基液晶的板面垂直于所述傳動平臺的表面，所述硅基液晶清洗裝置的清洗組件向所述硅基液晶的表面噴射預清洗劑并清洗第二預設時間；

將所述清洗組件內的預清洗劑更換為第一清洗溶劑后，所述清洗組件向所述硅基液晶的表面噴射所述第一清洗溶劑并清洗第三預設時間；

將所述硅基液晶清洗裝置轉移至充滿第二清洗藥液的藥液槽并使所述硅基液晶的板面垂直于所述藥液槽的底面，開啟所述藥液槽內的第二超聲裝置并持續第四預設時間；

將所述硅基液晶清洗裝置再次轉移至所述傳動平臺并使所述硅基液晶的板面垂直于所述傳動平臺的表面，所述清洗組件向所述硅基液晶的表面噴射第二清洗溶劑并清洗第五預設時間；

將所述硅基液晶清洗裝置轉移至風刀裝置后，開啟所述風刀裝置向所述硅基液晶的表面吹風并持續第六預設時間；

將所述硅基液晶清洗裝置轉移至烘干裝置后，將所述烘干裝置升溫至預設溫度并對所述硅基液晶烘干第七預設時間；

將所述硅基液晶清洗裝置轉移至光洗裝置后，開啟所述光洗裝置對所述硅基液晶紫外線照射第八預設時間。