[發(fā)明專利]紫外固化裝置、襯底處理設(shè)備及襯底處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210244114.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115069518A | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁相熙;劉正必;崔鍾權(quán);白種化 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | AP系統(tǒng)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B05D3/06 | 分類號(hào): | B05D3/06;B05D3/04;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 屈蓓;臧建明 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿道華城市*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紫外 固化 裝置 襯底 處理 設(shè)備 方法 | ||
1.一種紫外固化裝置,包括:
主體,被安裝成沿著待處理對(duì)象的上部部分移動(dòng);
紫外燈,安裝在所述主體的下部部分上;
壁部,連接到所述主體的下部部分,以在所述待處理對(duì)象與所述主體之間形成處理空間;
氣體供應(yīng)部,具有安裝在所述壁部上的部分,以向所述處理空間供應(yīng)惰性氣體;以及
控制單元,被配置成控制所述氣體供應(yīng)部的操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紫外固化裝置,其中所述壁部具有中空形狀,所述中空形狀具有敞開的上部部分及下部部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紫外固化裝置,其中所述壁部包括在垂直方向上延伸的本體部及設(shè)置在所述本體部下方且朝向所述主體的內(nèi)部彎曲的延伸部。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紫外固化裝置,其中所述壁部朝向所述主體的內(nèi)部及外部的至少一個(gè)側(cè)傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紫外固化裝置,其中所述氣體供應(yīng)部包括:
噴嘴,安裝在所述壁部的內(nèi)表面上,以將所述惰性氣體注入到所述處理空間;
氣體供應(yīng)管道,連接到所述噴嘴,以將所述惰性氣體供應(yīng)到所述噴嘴;以及
閥,安裝在所述氣體供應(yīng)管道上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的紫外固化裝置,其中所述氣體供應(yīng)部還包括輔助噴嘴,所述輔助噴嘴安裝在所述壁部的外表面上,以在垂直方向上注入所述氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的紫外固化裝置,還包括濃度計(jì),所述濃度計(jì)安裝在所述壁部上,以對(duì)所述處理空間中的氧氣濃度進(jìn)行測(cè)量。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的紫外固化裝置,其中所述濃度計(jì)被設(shè)置成低于所述噴嘴。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的紫外固化裝置,其中所述控制單元使用所述濃度計(jì)中測(cè)量的結(jié)果來(lái)控制所述閥的操作。
10.一種襯底處理設(shè)備,包括:
襯底支撐單元,被配置成支撐上面施加有光固化材料的襯底;以及
根據(jù)權(quán)利要求1到9中的任一項(xiàng)所述的紫外固化裝置,其中所述紫外固化裝置安裝在所述襯底支撐單元上方。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底處理設(shè)備,還包括溫度計(jì),所述溫度計(jì)安裝在壁部上,以對(duì)所述襯底的溫度進(jìn)行測(cè)量。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的襯底處理設(shè)備,其中所述襯底支撐單元包括:
襯底支撐件,被配置成支撐設(shè)置在所述襯底支撐件上的所述襯底;以及
冷卻裝置,被配置成對(duì)所述襯底支撐件的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié),
其中控制單元使用所述溫度計(jì)中測(cè)量的結(jié)果來(lái)控制所述冷卻裝置的操作。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的襯底處理設(shè)備,其中所述壁部與所述襯底支撐件間隔開。
14.一種襯底處理方法,包括:
制備涂布有光固化材料的襯底;
將所述襯底安置在襯底支撐件上;
在所述襯底上方使用所述襯底的局部區(qū)域形成用于所述襯底的處理空間;
在所述處理空間中形成惰性氣體氣氛;以及
在其中形成有所述惰性氣體氣氛的所述處理空間中輻照紫外光。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的襯底處理方法,其中輻照所述紫外光包括移動(dòng)其中形成有所述惰性氣體氣氛的所述處理空間。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的襯底處理方法,其中形成所述惰性氣體氣氛及輻照所述紫外光中的至少一者包括對(duì)所述處理空間中的氧氣濃度進(jìn)行測(cè)量。
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