[發明專利]一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法在審
| 申請號： | 202210241924.5 | 申請日： | 2022-03-11 |
| 公開（公告）號： | CN114573141A | 公開（公告）日： | 2022-06-03 |
| 發明（設計）人： | 姚穎;梁躍施;張良軍;區增輝;錢原鉻;孔柱文;林云燁 | 申請（專利權）人： | 佛山市佳利達環保科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C02F9/04 | 分類號： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 東莞卓為知識產權代理事務所(普通合伙) 44429 | 代理人： | 湯冠萍 |
| 地址： | 528000 廣東省佛*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 印染 廢水 去除 二氧化硅 方法 | ||
1.一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：包括有以下步驟：
S1、在反應池中投放三氯化鐵、液堿以及聚丙，調節PH7.8-8.5經過反應池進行反應、攪拌、絮凝；
S2、將反應池的溶液進行攪拌；
S3、將攪拌后的反應液放入沉淀池進行沉淀；
S4、將反應液進入過濾池進行過濾。
2.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步驟S1中，所述三氯化鐵的濃度為33％,2000PPM，所述液堿的濃度為32％,1000PPM，所述聚丙的濃度為0.32‰,2000PPM。
3.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S2中，對高鹽印染廢水進行攪拌的攪拌時間為1分鐘。
4.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S3中，反應液放入斜管池進行沉淀時間為10分鐘。
5.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步驟S1中，所述的反應池中設置有攪拌裝置，所述攪拌裝置用于攪拌混合藥劑以及廢水。
6.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：將S3反應液放入斜管池以及將S4中反應液放入斜管池，均分別通過加壓泵以及管道進行傳輸。
7.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S3中，所述沉淀池為斜管沉淀池。
8.根據權利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S4中，所述過濾池為砂濾池。
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