[發明專利]一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機

有效

• 申請號: 202210237584.9
• 申請日: 2022-03-11
• 公開（公告）號: CN114589157B
• 公開（公告）日: 2023-01-17
• 發明（設計）人: 孫先淼;周訓丙;趙天翔
• 申請（專利權）人: 智程半導體設備科技(昆山)有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京專贏專利代理有限公司 11797
• 代理人: 陳進

本發明適用于晶圓生產設備技術領域，提供了一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機；包括：清洗槽；設置于清洗槽內部的環形隔板，環形隔板外側與清洗槽內側圍合而成循環槽；轉動設置于環形隔板內部的轉動盤；設置在轉動盤上往復滑動的多個用于承載超聲換能器的安裝滑板；設置在環形隔板內部的花籃固定架，花籃固定架用于對花籃進行固定；用于驅動花籃固定架和超聲換能器往復滑動的驅動機構，驅動機構設置在清洗槽上；及，用于驅動清洗槽內部清洗液通過循環槽循環流動的連通管道，連通管道設置在清洗槽底部；連通管道內部轉動設置有用于驅動清洗液流動的螺旋器。本發明提高了清洗效率，同時使得晶圓清洗更加完整。

技術領域

本發明涉及晶圓生產設備技術領域，具體是一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機。

背景技術

在半導體制造中清洗工藝是使用最頻繁、重復次數最多的一個工藝過程。其中，濕法化學清洗技術在半導體制造中得到廣泛應用，其工作原理是使用各種化學藥液與半導體器件表面的各種雜質、粒子發生化學反應生成溶于水的物質，再用高純水沖洗，依次除去半導體器件表面的污染物。

現有技術在通常采用超聲清洗，在超聲清洗過程中由于晶圓和超聲發生裝置之間位置相對固定，導致存在清洗不夠徹底的現象，為了解決該技術問題現提出一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機。

發明內容

本發明的目的在于提供一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機，所述清洗液循環流動的晶圓槽式清洗機，包括：清洗槽；

設置于所述清洗槽內部的環形隔板，所述環形隔板外側與清洗槽內側圍合而成循環槽；

轉動設置于環形隔板內部的轉動盤，所述轉動盤上設有用于清洗液上下流動的通孔結構；

設置在轉動盤上往復滑動的多個用于承載超聲換能器的安裝滑板；

設置在環形隔板內部的花籃固定架，所述花籃固定架用于對花籃進行固定，所述花籃固定架設置在轉動盤上方；

用于驅動花籃固定架和超聲換能器往復滑動的驅動機構，所述驅動機構設置在清洗槽上；

及，用于驅動所述清洗槽內部清洗液通過循環槽循環流動的連通管道，所述連通管道設置在清洗槽底部，且設置在轉動盤下方；所述連通管道內部轉動設置有用于驅動清洗液流動的螺旋器。

作為本發明進一步的方案：所述驅動機構包括驅動凸起和轉動設置在清洗槽上的驅動軸，所述轉動盤固定安裝在驅動軸上，所述安裝滑板彈性滑動安裝在轉動盤上，所述安裝滑板一端設置有抵觸桿，所述抵觸桿抵觸在清洗槽內壁上，所述驅動凸起為多個，且多個所述驅動凸起陣列設置在抵觸桿的移動軌跡上。

作為本發明再進一步的方案：所述安裝滑板滑動設置在轉動盤上的滑槽中，且安裝滑板通過彈性件彈性設置在轉動盤上。

作為本發明再進一步的方案：所述驅動機構還包括驅動盤，所述驅動盤連接在驅動軸上，所述驅動盤與花籃固定架之間傳動連接，所述花籃固定架滑動設置在清洗槽內部。

作為本發明再進一步的方案：所述花籃固定架連接在滑桿上，所述滑桿滑動設置在清洗槽內部，所述滑桿端部設置有連桿，所述連桿遠離滑桿一端滑動設置在驅動盤表面的驅動槽中，所述驅動槽為環形波浪結構。

作為本發明再進一步的方案：所述螺旋器外側設置有第二齒環，所述第二齒環與第一齒環嚙合，所述第一齒環設置在轉動盤的底部。

作為本發明再進一步的方案：所述連通管道端部設置有過濾網，所述過濾網用于對雜質進行過濾。

作為本發明再進一步的方案：所述循環槽底部還設置有排污槽，所述排污槽上設置有開關閥。