[發(fā)明專利]基于光學(xué)目標(biāo)一維曲線波峰特征提取的多目標(biāo)識(shí)別方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210206105.7 | 申請(qǐng)日: | 2022-02-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114580532B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王拯洲;魏際同;郭嘉富;王力;王偉;李剛;弋東馳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G06V10/764 | 分類號(hào): | G06V10/764;G06T5/30;G06T7/187;G06V10/40 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 唐沛 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 光學(xué) 目標(biāo) 曲線 波峰 特征 提取 多目標(biāo) 識(shí)別 方法 | ||
1.一種基于光學(xué)目標(biāo)一維曲線波峰特征提取的多目標(biāo)識(shí)別法,其特征在于,包括以下實(shí)現(xiàn)步驟:
步驟1:對(duì)采集的原始圖像進(jìn)行二值化
步驟2:數(shù)字形態(tài)學(xué)的膨脹運(yùn)算處理
使用數(shù)字形態(tài)學(xué)的膨脹運(yùn)算,將遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)可能出現(xiàn)的多個(gè)連通域合并為一個(gè)連通域,使得模擬光目標(biāo)和遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)分別對(duì)應(yīng)一個(gè)獨(dú)立的連通域,分別統(tǒng)計(jì)模擬光目標(biāo)連通域以及遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)連通域的BLOB信息,BLOB信息包括光學(xué)目標(biāo)的區(qū)間、面積、中心位置、連通域在圖像XY方向尺寸;
步驟3:目標(biāo)分離
對(duì)模擬光目標(biāo)連通域以及遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)連通域各自對(duì)應(yīng)的原始圖像進(jìn)行裁剪,歸一化裁剪圖像尺寸;
步驟4:目標(biāo)識(shí)別
步驟4.1:分別提取兩幅剪裁圖像中中心位置的一維水平曲線,作為模擬光目標(biāo)一維水平曲線和遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)的一維水平曲線;
一維水平曲線的縱坐標(biāo)代表灰度值,橫坐標(biāo)為代表位置;
步驟4.2:搜索模擬光目標(biāo)一維水平曲線和遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)一維水平曲線的峰值;
步驟4.3:分別對(duì)兩個(gè)一維水平曲線進(jìn)行搜索,搜索方式為從最大波峰對(duì)應(yīng)位置開(kāi)始向兩邊搜索,得到對(duì)應(yīng)于最大波峰不同比例高度位置處的灰度值,并劃分有效波峰區(qū)間,統(tǒng)計(jì)有效波峰區(qū)間信息;
所述有效波峰區(qū)間為[Left30%,Right30%],
Left30%代表最大波峰30%高度的最左側(cè)位置;Right30%代表最大波峰30%高度的最右側(cè)位置;
所述有效波峰區(qū)間信息包括波峰個(gè)數(shù)、波峰灰度值、波峰位置、有效區(qū)間最左側(cè)位置及該位置對(duì)應(yīng)的灰度值,以及有效區(qū)間最右側(cè)位置及該位置對(duì)應(yīng)的灰度值;
步驟4.4:判別模擬光目標(biāo)和遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo)
根據(jù)步驟4.3獲取的有效波峰區(qū)間的波峰數(shù)量判斷,如果波峰個(gè)數(shù)為1,則為該曲線模擬光目標(biāo);如果波峰個(gè)數(shù)大于1,說(shuō)明水平曲線包含多個(gè)波峰,在左邊上升沿和右面下降之沿間是存在波谷,則該曲線為遠(yuǎn)場(chǎng)目標(biāo);
步驟4.5:計(jì)算縱向波峰系數(shù),從而確定有效波峰區(qū)間內(nèi)各個(gè)波峰之間的波動(dòng)程度;
縱向波峰系數(shù)Pfy的具體公式表示為:
式中,Peak_precent_30表示大于最大波峰30%高度對(duì)應(yīng)的灰度值,n表示所有灰度值大于Peak_precent_30的位置個(gè)數(shù);
波峰系數(shù)越大,說(shuō)明波動(dòng)程度越小,對(duì)應(yīng)光斑分布越均勻;波峰系數(shù)越小,說(shuō)明波動(dòng)程度越大,對(duì)應(yīng)光斑分布越規(guī)則,條紋和紋理越明顯。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于光學(xué)目標(biāo)一維曲線波峰特征提取的多目標(biāo)識(shí)別法,其特征在于:還包括步驟4.6:搜索和標(biāo)識(shí)波峰所在區(qū)間;
步驟4.6.1:搜索和標(biāo)識(shí)第一波峰區(qū)間及相關(guān)信息
從第一波峰所在位置開(kāi)始,先向左邊搜索,直至搜索到的灰度值小于最大波峰灰度值的30%,將該位置記為第一波峰左邊界First_peak_lianxu_left;再向右邊搜索,直至搜索到的灰度值小于最大波峰灰度值的30%,將該位置記為第一波峰右邊界First_peak_lianxu_right,從而得到第一波峰區(qū)間為[First_peak_lianxu_left,F(xiàn)irst_peak_lianxu_righ],并輸出第一波峰區(qū)間的相關(guān)信息;
所述輸出第一波峰區(qū)間的相關(guān)信息包括:第一波峰最大灰度值、位置以及區(qū)間長(zhǎng)度;
步驟4.6.2:將第一波峰有效區(qū)間[First_peak_lianxu_left,First_peak_lianxu_right]所在的曲線灰度值設(shè)置為0,并將刪除了第一波峰區(qū)間后的一維水平曲線記為a2_x;
步驟4.6.3:搜索和標(biāo)識(shí)第二波峰所在區(qū)間及相關(guān)信息
在曲線a2_x中,按照步驟4.6.1的方式搜尋第二波峰區(qū)間;從而得到第二波峰區(qū)間為:
[Second_peak_succ_left,Second_peak_succ_right];
若存在第二波峰,則輸出第二波峰區(qū)間的相關(guān)信息;所述輸出第二波峰區(qū)間的相關(guān)信息包括:第二波峰最大灰度值、位置以及區(qū)間長(zhǎng)度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210206105.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 目標(biāo)檢測(cè)裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)及目標(biāo)檢測(cè)方法
- 目標(biāo)監(jiān)測(cè)方法、目標(biāo)監(jiān)測(cè)裝置以及目標(biāo)監(jiān)測(cè)程序
- 目標(biāo)監(jiān)控系統(tǒng)及目標(biāo)監(jiān)控方法
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤裝置
- 目標(biāo)檢測(cè)方法和目標(biāo)檢測(cè)裝置
- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)及目標(biāo)跟蹤方法





