[發明專利]顯示面板缺陷定位方法、裝置、設備及存儲介質

有效

• 申請號: 202210197247.1
• 申請日: 2022-03-02
• 公開（公告）號: CN114266773B
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 成都數聯云算科技有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/70;G06V10/25;G06V10/75;G06K9/62
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 王志

本申請公開了一種顯示面板缺陷定位方法，通過缺陷圖像在標準模版上的對應位置確定缺陷圖像在標準模版掩膜上的對應位置，以獲得缺陷圖像的像素值分布，將其與標準模版中各個區域的像素值進行對比，定位缺陷所處的區域，增加了缺陷圖像與標準模版的對照精度，通過像素值定位缺陷位置，避免了人為判斷偏差，提高了定位精準度。

技術領域

本申請涉及顯示面板設計制造領域，尤其涉及一種顯示面板缺陷定位方法、裝置、設備及存儲介質。

背景技術

顯示面板制造過程中因工藝波動、機臺差異等因素影響，會產生各種各樣形態的缺陷。隨著人工智能技術以及ADC系統（Automatic Defect Classification，自動缺陷分類系統）的發展，面板缺陷定位和分類已經逐步普及。

顯示面板的制造主要可分為前段Array、中段 Cell 及后段 Module 三大工藝過程，Array制程的難度最高、工藝最復雜，使得待檢基板紋理復雜且存在大量近透明、低對比度微小的缺陷，這給缺陷檢測和修復帶來極大困難和挑戰。需要根據缺陷所在區域，判斷缺陷是否進行修補操作。目前缺陷所在區域位置可以依據人眼進行判別，但準確性低。

發明內容

本申請的主要目的在于提供一種顯示面板缺陷定位方法、裝置、設備及存儲介質，旨在解決人工判定缺陷所在區域位置的準確性低的技術問題。

為實現上述目的，本申請提供一種顯示面板缺陷定位方法，包括：

獲取待測顯示面板圖像；其中，所述待測顯示面板圖像為對所述待測顯示面板采集的圖像，所述待測顯示面板包含缺陷；

對所述待測顯示面板圖像中的缺陷位置進行標記，以獲得缺陷圖像；其中，所述缺陷位置為所述缺陷對應的位置；

根據所述缺陷圖像和標準模版，獲得所述缺陷在所述標準模板上的對應位置；其中，所述標準模板是基于無缺陷顯示面板生成；

根據所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布；

根據所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布，定位所述缺陷的所屬區域。

可選地，所述根據所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布的步驟，包括：

生成所述標準模板的第一掩膜圖以及所述缺陷圖像的第二掩膜圖，所述第一掩膜圖中不同區域包括不同像素值的像素點，所述第二掩膜圖中包括所述缺陷所在區域的缺陷像素點；

根據所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布。

根據缺陷在標準模板上的對應位置，可以得到缺陷在標準模版的掩膜圖上的對應位置的像素點數量，進而根據該像素點數量和標準模版的掩膜圖上的像素點數量，可以獲得缺陷在標準模版上每個區域的像素值，該像素值用于判定缺陷的所屬區域。

可選地，所述根據所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布的步驟，包括：

根據所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得落在所述第一掩膜圖中各區域的缺陷像素點的數量；

根據落在所述第一掩膜圖中各區域的缺陷像素點的數量以及所述第一掩膜圖中各區域的像素點數量，獲得所述缺陷像素點在所述第一掩膜圖中各區域的像素點占比；

根據所述缺陷像素點在所述第一掩膜圖中各區域的像素點占比，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布。