[發(fā)明專利]顯示面板缺陷定位方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210197247.1 | 申請日： | 2022-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN114266773B | 公開（公告）日： | 2022-05-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權(quán)）人： | 成都數(shù)聯(lián)云算科技有限公司 |
| 主分類號： | G06T7/00 | 分類號： | G06T7/00;G06T7/70;G06V10/25;G06V10/75;G06K9/62 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 王志 |
| 地址： | 610000 四川省成都市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示 面板 缺陷 定位 方法 裝置 設(shè)備 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，包括以下步驟：
獲取待測顯示面板圖像；其中，所述待測顯示面板圖像為對所述待測顯示面板采集的圖像，所述待測顯示面板包含缺陷；
對所述待測顯示面板圖像中的缺陷位置進行標記，以獲得缺陷圖像；其中，所述缺陷位置為所述缺陷對應的位置；
根據(jù)所述缺陷圖像和標準模板，獲得所述缺陷在所述標準模板上的對應位置；其中，所述標準模板是基于無缺陷顯示面板生成；
根據(jù)所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布；其中，所述根據(jù)所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布的步驟，包括：
生成所述標準模板的第一掩膜圖以及所述缺陷圖像的第二掩膜圖，所述第一掩膜圖中不同區(qū)域包括不同像素值的像素點，所述第二掩膜圖中包括所述缺陷所在區(qū)域的缺陷像素點；
根據(jù)所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布；
根據(jù)所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布，定位所述缺陷的所屬區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布的步驟，包括：
根據(jù)所述第一掩膜圖、所述第二掩膜圖以及所述缺陷在所述標準模板上的對應位置，獲得落在所述第一掩膜圖中各區(qū)域的缺陷像素點的數(shù)量；
根據(jù)落在所述第一掩膜圖中各區(qū)域的缺陷像素點的數(shù)量以及所述第一掩膜圖中各區(qū)域的像素點數(shù)量，獲得所述缺陷像素點在所述第一掩膜圖中各區(qū)域的像素點占比；
根據(jù)所述缺陷像素點在所述第一掩膜圖中各區(qū)域的像素點占比，獲得所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，所述標準模板上包括主線；所述根據(jù)所述缺陷在所述標準模板上的像素值分布，定位所述缺陷的所屬區(qū)域的步驟之后，還包括：
獲取所述缺陷的所屬區(qū)域的二值圖像；
根據(jù)所述二值圖像，獲得所述缺陷的所屬區(qū)域的橫向異常像素數(shù)和橫向異常像素數(shù)；
根據(jù)所述橫向異常像素數(shù)和所述橫向異常像素數(shù)，獲得所述缺陷的主線占比。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，所述根據(jù)所述缺陷圖像和標準模版，獲得所述缺陷在所述標準模板上的對應位置的步驟，包括：
對所述標準模板進行灰度處理，獲得所述標準模板的灰度圖；
對所述缺陷圖像進行圖像處理，獲得所述缺陷圖像的區(qū)域灰度圖；
對所述區(qū)域灰度圖和所述灰度圖進行相似度匹配，以獲得所述缺陷在所述標準模板上的對應位置。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，所述對所述缺陷圖像進行圖像處理，獲得所述缺陷圖像的區(qū)域灰度圖的步驟，包括：
在所述缺陷圖像上，以所述缺陷的中心點為基準，向周圍擴展多個像素點，獲得缺陷匹配區(qū)域；
提取所述缺陷匹配區(qū)域，獲得區(qū)域圖像；
對所述區(qū)域圖像進行灰度處理，獲得所述區(qū)域灰度圖。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板缺陷定位方法，其特征在于，所述對所述待測顯示面板圖像中的缺陷位置進行標記，以獲得缺陷圖像的步驟，包括：
將所述待測顯示面板圖像輸入已訓練的分割模型，獲得已標記缺陷的所述缺陷圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述將所述待測顯示面板圖像輸入已訓練的分割模型，以獲得已標記缺陷的所述缺陷圖像的步驟之前，還包括：
獲取訓練集，所述訓練集包括若干包含缺陷的訓練圖像，各訓練圖像中已對所述缺陷位置進行標注；
利用訓練集對初始分割模型進行訓練，獲得所述分割模型。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于成都數(shù)聯(lián)云算科技有限公司，未經(jīng)成都數(shù)聯(lián)云算科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210197247.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
