[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備在審
| 申請號: | 202210186369.0 | 申請日: | 2022-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN114995079A | 公開(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發明(設計)人: | 西田孟;石塚由香;大澤達矢 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/147 | 分類號: | G03G5/147;G03G15/00;G03G15/16;G03G21/18 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 構件 處理 設備 | ||
本發明涉及電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備。提供一種在保持電子照相特性的同時耐圖像拖尾和低扭矩優異的電子照相感光構件。該電子照相感光構件為如下電子照相感光構件,其依次包括:支承體;感光層;和作為表面層的保護層,其中保護層的表面的展開面積比Sdr為1.0%至40.0%,并且其中由下式(1)表示的A值為0.10至0.27:A=S1/S2…式(1),其中,在式(1)中,S1表示通過傅里葉變換紅外光譜全反射法基于芳香環的C=C伸縮振動的峰面積,和S2表示通過相同方法基于酯基的C=O伸縮振動的峰面積。
技術領域
本發明涉及電子照相感光構件和各自包括該電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。
背景技術
迄今為止,已經對要安裝在電子照相設備的電子照相感光構件進行了廣泛的研究,以改善其圖像品質和耐久性。研究的一個實例為在電子照相感光構件的表面使用自由基聚合性樹脂以改善其耐磨耗性(機械耐久性)的研究。同時,在某些情況下出現由于耐磨耗性的改善導致的作為不利影響的圖像拖尾(image smearing)。圖像拖尾是由于靜電潛像的模糊而使得輸出圖像模糊的現象。該現象被認為是由由于通過電子照相感光構件表面的帶電生成的放電生成物的殘留而在高濕環境下電子照相感光構件表面的表面電阻變化而引起的。
在日本專利申請特開No.2012-8440中,描述了其中通過使具有7個以上且10個以下的自由基聚合性官能團并且反應性基團當量(分子量/官能團數)為140以下且100以上的聚合性化合物聚合來形成電子照相感光構件的表面層,因此表面層具有優異的耐擦傷性、耐磨耗性和耐裂紋性的技術。另外,在日本專利申請特開No.2020-95236中,描述了其中電子照相感光構件的保護層除了自由基聚合性樹脂之外還包含氟樹脂顆粒和部分氟化的醇取代的二醇,從而抑制圖像拖尾的技術。
發明內容
根據本發明的發明人的研究,在日本專利申請特開No.2012-8440或日本專利申請特開No.2020-95236中描述的電子照相感光構件中,其可能不能在維持其電子照相特性(以下,也稱為“感光度”)的同時充分實現耐圖像拖尾和低扭矩二者,因此其實現成為問題。
因此,本發明的目的是提供一種電子照相感光構件,其在保持電子照相特性的同時具有優異的耐圖像拖尾和低扭矩。
該目的通過以下描述的本發明來實現。即,根據本發明的電子照相感光構件為如下電子照相感光構件,其依次包括:支承體;感光層;和作為表面層的保護層,其中,保護層的表面的展開面積比Sdr為1.0%至40.0%,和由下式(1)表示的A值為0.10至0.27:
A=S1/S2 式(1)
其中,在式(1)中,S1表示在通過借助傅里葉變換紅外光譜全反射法通過將Ge用作內部反射元件并且通過使用入射角為45°的測量條件對保護層的表面進行測量而得到的光譜的峰面積中、基于芳香環的C=C伸縮振動的1,530cm-1至1,470cm-1的峰面積,和S2表示在通過借助傅里葉變換紅外光譜全反射法通過將Ge用作內部反射元件并且通過使用入射角為45°的測量條件對保護層的表面進行測量而得到的光譜的峰面積中、基于酯基的C=O伸縮振動的1,770cm-1至1,700cm-1的峰面積。
根據本發明,可以提供在保持電子照相特性的同時耐圖像拖尾和低扭矩優異的電子照相感光構件。
參照附圖,從以下示例性實施方案的描述,本發明的進一步特征將變得顯而易見。
附圖說明
圖1為本發明的電子照相設備的示意性構造的實例的說明。
具體實施方式
以下,將通過示例性實施方案的方式詳細描述本發明。
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