[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備

在審

• 申請號: 202210186369.0
• 申請日: 2022-02-28
• 公開（公告）號: CN114995079A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 西田孟;石塚由香;大澤達矢
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G5/147
• 分類號: G03G5/147;G03G15/00;G03G15/16;G03G21/18
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種電子照相感光構件，其特征在于，其依次包括：

支承體；

感光層；和

作為表面層的保護層，

其中所述保護層的表面的展開面積比Sdr為1.0％至40.0％和由下式(1)表示的A值為0.10至0.27：

A＝S1/S2 式(1)

其中，在式(1)中，S1表示在通過借助傅里葉變換紅外光譜全反射法通過將Ge用作內部反射元件并且通過使用入射角為45°的測量條件對所述保護層的表面進行測量而得到的光譜的峰面積中、基于芳香環的C＝C伸縮振動的1,530cm^-1至1,470cm^-1的峰面積，和S2表示在通過借助傅里葉變換紅外光譜全反射法通過將Ge用作內部反射元件并且通過使用入射角為45°的測量條件對所述保護層的表面進行測量而得到的光譜的峰面積中、基于酯基的C＝O伸縮振動的1,770cm^-1至1,700cm^-1的峰面積。

2.根據權利要求1所述的電子照相感光構件，其中，所述保護層的表面的由下式(2)表示的B值為0.005至0.070：

B＝S3/S2 式(2)

其中，在式(2)中，S2與所述式(1)中的S2含義相同，并且表示基于酯基的C＝O伸縮振動的峰面積，和S3表示通過借助傅里葉變換紅外光譜全反射法通過將Ge用作內部反射元件并且通過使用入射角為45°的測量條件對所述保護層的表面進行測量而得到的光譜的峰面積中、基于末端烯烴CH₂＝的面內變形振動的1,413cm^-1至1,400cm^-1的峰面積。

3.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件，其中所述保護層包含未取代的環己烷骨架和/或具有取代基的環己烷骨架。

4.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件，

其中所述保護層以相對于所述保護層的總質量為5質量％至50質量％的含量包含沒有固化性官能團的三芳胺化合物。

5.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件，

其中所述保護層以相對于所述保護層的總質量為5質量％至30質量％的含量包含導電性顆粒，和

所述導電性顆粒為選自由氧化銦錫、氧化鋁、氧化鋯、氧化鋅、氧化銦、氧化鑭和氧化錫銻組成的組中的至少一種的顆粒。

6.一種處理盒，其特征在于，其一體化地支承根據權利要求1至5中任一項所述的電子照相感光構件和選自由充電單元、顯影單元和清潔單元組成的組中的至少一種單元，并且所述處理盒可拆卸地安裝至電子照相設備的主體。

7.根據權利要求6所述的處理盒，其中所述清潔單元包括表面的動態硬度為0.06至0.60mN/μm²的清潔刮板。

8.一種電子照相設備，其特征在于，其包括根據權利要求1至5中任一項所述的電子照相感光構件、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉印單元。

9.根據權利要求8所述的電子照相設備，其中所述轉印單元包括表面層包含丙烯酸系樹脂的中間轉印構件。

10.根據權利要求8所述的電子照相設備，

其中所述轉印單元包括中間轉印構件，和

所述中間轉印構件的圓周速度D2與所述電子照相感光構件的圓周速度D1的圓周速度比落在由下式(4)表示的范圍內：

101％≤D2/D1≤120％ 式(4)。