[發(fā)明專利]一種八層軟硬結(jié)合HDI板的制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210179773.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-02-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114531793A | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉金峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 黃石西普電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/46 | 分類號(hào): | H05K3/46 |
| 代理公司: | 武漢藍(lán)寶石專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人: | 朱才永 |
| 地址: | 435000*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 軟硬 結(jié)合 hdi 制作方法 | ||
本發(fā)明涉及一種八層軟硬結(jié)合HDI板的制作方法,其包括如下步驟:S1、制作內(nèi)層雙面軟板;S2、制作一次基材壓合板;S3、制作四層板;S4、制作二次基材壓合板;S5、制作六層板;S6、制作八層板;S7、制作八層軟硬結(jié)合HDI板,本申請(qǐng)?jiān)趦?nèi)介質(zhì)層上對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置開窗,在外介質(zhì)層對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置反貼覆蓋膜的方式,廢料區(qū)整條開窗,揭蓋時(shí),軟板上的廢料和硬板廢料區(qū)同時(shí)揭蓋,其揭蓋效率提升90%以上;軟板區(qū)露出內(nèi)覆蓋膜,硬板廢料區(qū)仍然存在連接點(diǎn),保證產(chǎn)品加工過程中漲縮穩(wěn)定,變形量小。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及軟硬結(jié)合HDI板制作工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種八層軟硬結(jié)合HDI板的制作方法。
背景技術(shù)
HDI是高密度互連(High Density Interconnector)的縮寫,是生產(chǎn)印刷電路板的一種(技術(shù)),使用微盲埋孔技術(shù)的一種線路分布密度比較高的電路板。
八層軟硬結(jié)合HDI板同時(shí)具備FPC板和PCB板的特性,既有一定的撓性區(qū)域,也有一定的剛性區(qū)域,可節(jié)省產(chǎn)品內(nèi)部空間,減少產(chǎn)品體積,提高產(chǎn)品性能。
傳統(tǒng)的軟硬結(jié)合板制作方法中,為了避免在制造過程中造成的覆蓋膜/軟板區(qū)被污染,會(huì)在覆蓋膜/軟板區(qū)上反貼保護(hù)膜,然后整條軟板區(qū)廢料揭蓋,但是在該過程中,產(chǎn)品漲縮會(huì)出現(xiàn)不穩(wěn)定情況,影響客戶SMT打件,導(dǎo)致品質(zhì)不達(dá)標(biāo),并且單件揭蓋,實(shí)際生產(chǎn)效率極低,不利于批量生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
基于上述表述,本發(fā)明提供了一種八層軟硬結(jié)合HDI板的制作方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中廢料揭蓋導(dǎo)致產(chǎn)品漲縮不穩(wěn)定,導(dǎo)致產(chǎn)品最終質(zhì)量不達(dá)標(biāo)的技術(shù)問題。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下:
一種八層軟硬結(jié)合HDI板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、提供一基板,在基板兩側(cè)表面分別制作內(nèi)層線路層,得到內(nèi)層雙面軟板;
S2、在內(nèi)層雙面軟板的兩側(cè)面粘貼內(nèi)覆蓋膜,在每一側(cè)內(nèi)覆蓋膜的表面制作內(nèi)介質(zhì)層,其中內(nèi)介質(zhì)層上對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置開窗,在內(nèi)介質(zhì)層表面對(duì)應(yīng)硬板區(qū)的位置疊放內(nèi)硬板層后壓合,得到一次基材壓合板;
S3、在一次基材壓合板上鉆孔,并在上下端面制作次內(nèi)層線路層,得到四層板;
S4、在四層板的兩側(cè)表面制作次內(nèi)介質(zhì)層,其中次內(nèi)介質(zhì)層上對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置開窗;在次內(nèi)介質(zhì)層表面對(duì)應(yīng)硬板區(qū)的位置疊放次內(nèi)硬板層后壓合,得到二次基材壓合板;
S5、在二次基材壓合板上鉆孔,并在上下端面制作次外層線路層,得到六層板;
S6、在六層板的兩側(cè)表面制作外介質(zhì)層,在外介質(zhì)層對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置反貼覆蓋膜,在外介質(zhì)層表面對(duì)應(yīng)硬板區(qū)的位置疊放外硬板層后壓合,得到八層板;其中覆蓋膜反面為不具有粘性的絕緣層,外介質(zhì)層的硬板區(qū)和軟板區(qū)交界處沖縫;
S7、在八層板的兩側(cè)表面制作外層線路層,然后揭蓋,得到八層軟硬結(jié)合HDI板。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)的技術(shù)方案具有以下有益技術(shù)效果:
本申請(qǐng)?jiān)趦?nèi)介質(zhì)層上對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置開窗,在外介質(zhì)層對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置反貼覆蓋膜的方式,廢料區(qū)整條開窗,揭蓋時(shí),軟板上的廢料和硬板廢料區(qū)同時(shí)揭蓋,其揭蓋效率提升90%以上;軟板區(qū)露出內(nèi)覆蓋膜,硬板廢料區(qū)仍然存在連接點(diǎn),保證產(chǎn)品加工過程中漲縮穩(wěn)定,變形量小。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本發(fā)明還可以做如下改進(jìn)。
進(jìn)一步的,所述基板為中間為絕緣層兩側(cè)為純銅箔層的無膠雙面銅基板。
進(jìn)一步的,內(nèi)介質(zhì)層和次內(nèi)介質(zhì)層對(duì)應(yīng)軟板區(qū)的位置以軟硬交接線為邊界開窗。
進(jìn)一步的,步驟S6中,外介質(zhì)層的硬板區(qū)和軟板區(qū)之間的縫隙留不大于2mm的微連點(diǎn)。
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